技術(shù)能夠在*對現(xiàn)有系統(tǒng)/芯片

時間：2020-01-05作者：東莞市科普源光源設(shè)備有限公司瀏覽：479

按臺積電的說法，其透明式雙重成像技術(shù)能夠在*對現(xiàn)有系統(tǒng)/芯片設(shè)計辦法停止變動的條件下將產(chǎn)品遷移到20nm節(jié)點。目前臺積電曾經(jīng)在與EDA軟件廠商討論如何將透明式雙重成像技術(shù)內(nèi)嵌到EDA廠商的商用設(shè)計軟件中去。
 回想2009年初，臺積電曾表示其啟動20nm制程節(jié)點時EUV/電子束光刻等次世代光刻技術(shù)可能尚未成熟，因而屆時他們方案啟用193nm液浸式光刻機+雙重成像技術(shù)。當(dāng)時臺積電擔(dān)任光刻技術(shù)的高管林本堅曾表示，他較傾向于運用僅需停止單次蝕刻的LLE(Litho-Litho-Etch)型雙重成像技術(shù)，而非目常見的LELE（Litho-Etch-Litho-Etch）/SADP型雙重成像技術(shù)。
 LLE技術(shù)運用成分不同的雙層光阻膠， 或采用特殊的光阻膠固化工藝（Freeze process）采用兩次曝光+單次蝕刻的辦法來完成雙重成像；相比之下LELE技術(shù)則采用硬掩模層隔開光阻膠的計劃，采用兩次曝光+兩次蝕刻（分別蝕刻兩層光阻膠及硬掩模）的辦法來完成雙重成像。
 LLE技術(shù)的優(yōu)勢之一是本錢方面可能比LELE計劃愈加優(yōu)越，不過09年時LLE技術(shù)還并不成熟。目前我們還不分明臺積電這次將展現(xiàn)的透明式雙重成像技術(shù)能否就是基于LLE技術(shù)，答案恐怕只要在DAC會議召開時才干揭曉了。
 另外，臺積電如今宣布20nm節(jié)點制程采用193nm液浸式光刻+雙重成像技術(shù)，那么這能否意味著他們在20nm節(jié)點不會啟用EUV呢，恐怕一定？假如仔細閱讀上面的報道，你會發(fā)現(xiàn)臺積電所說的透明式雙重成像技術(shù)是為了提升“金屬線節(jié)距”的分辨率而開發(fā)的，那么屆時比金屬線層愈加關(guān)鍵的多晶硅層會采用什么光刻技術(shù)？
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  產(chǎn)品結(jié)構(gòu)調(diào)整**包括，通過改性和可行的水性化工藝加快水性醇酸涂料的產(chǎn)業(yè)化步伐；改變鈦白粉目前硫酸法產(chǎn)品占98%以上的局面；提升氧化鐵顏料深加工能力(如包膜處理)，滿足**市場需求；加快復(fù)合磷酸鹽、復(fù)合鉬酸鹽防腐顏料的開發(fā)應(yīng)用，取代紅丹和鉻酸鹽。 科技方面，規(guī)劃提出的技術(shù)**目標(biāo)有，開發(fā)**涂料、特種用途無機顏料；研發(fā)硫酸法鈦白粉清潔生產(chǎn)集成技術(shù)、氧化鐵顏料生物法氨氮廢水處理技術(shù)；開發(fā)地區(qū)**工程

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• 鹵素?zé)舾療舻膮^(qū)別

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