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請問PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學電鍍(水電鍍)相比有何優(yōu)點?
PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學電鍍的相同點是,兩者都屬于表面處理的范疇,都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。 ? ? 兩者的不同點是:PVD鍍膜膜層與工件表面的結(jié)合力較大,膜層的硬度較高,耐磨性和耐腐蝕性較好,膜層的性能也較穩(wěn)定;PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類較為廣泛,可以鍍出的各種膜層的顏色也更多較漂亮;有些產(chǎn)品在鍍膜的時候如果暴露在空氣中,會與空氣中的氣體和塵埃發(fā)生反應,但使用真空鍍膜就能避免這些問題。PVD鍍膜不會產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。
鋁型材鍍鈦金工藝,包括選材、拋光、化學除油、清水沖洗、活化、真空鍍鈦工藝步驟,其特征在于它還包括:
預鍍工藝,該工藝是將活化后并經(jīng)清水沖洗的鈦金鋁型材置于由鹽、鹽酸和水組成的液體中進行化學處理,處理溫度為常溫,處理時間至液體發(fā)生激烈化學反應為止;
電鍍工藝,該工藝中鍍液成份包括硫酸鎳、氯化鎳、硼酸、十二烷基硫酸鈉、糖精、光亮劑,工藝條件:電流3-4A /dm2陰極移動、5-7A/dm2空氣攪拌,鍍液溫度50-60℃,PH 值3.9-4.2,電鍍時間15分鐘。
真空鍍膜機濺鍍的原理是什么
濺鍍,一般指的是磁控濺鍍,歸于高速低溫濺鍍法.
該技能請求真空度在1×10-3Torr擺布,即1.3×10-3Pa的真空狀況充入慵懶氣體,并在塑膠基材(陽極)和金屬靶材(陰極)之間加上高壓直流電,因為輝光放電發(fā)生的電子激起慵懶氣體,發(fā)生等離子體,等離子體將金屬靶材的原子轟出,堆積在塑膠基材上.以幾十電子伏特或較高動能的荷電粒子炮擊資料外表,使其濺射出進入氣相,可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數(shù)稱為濺射產(chǎn)額產(chǎn)額越高濺射速度越快。一般在0.1-10原子/離子。離子能夠直流輝光放電發(fā)生,在10-1—10 Pa真空度,在兩較間加高壓發(fā)生放電,正離子會炮擊負電之靶材而濺射也靶材,而鍍至被鍍物上。在選擇的時候需要了解待抽氣體的成分,如果需要選擇性的抽氣,一種泵可能不足以滿足要求,必須組合多種不同的泵互相配合工作,如果真空鍍膜設備鍍膜要求無油則要選用無油泵。
詞條
詞條說明
請問PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學電鍍(水電鍍)相比有何優(yōu)點? PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學電鍍的相同點是,兩者都屬于表面處理的范疇,都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。 兩者的不同點是:PVD鍍膜膜層與工件表面的結(jié)合力較大,膜層的硬度較高,耐磨性和耐腐蝕性較好,膜層的性能也較穩(wěn)定;PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類較為廣泛,可以鍍出的各種膜層的顏色也更多較漂亮;有些產(chǎn)品在鍍膜的時候如果暴露在空氣中
近十多年,真空離子鍍技術的發(fā)展是較快的,它已經(jīng)成為了當代**的表面處理方法之一。我們通常所說的PVD鍍膜,指的就是真空離子鍍膜;通常所說的PVD鍍膜機,指的也就是真空離子鍍膜機。 Q3: 請問PVD鍍膜的具體原理是什么? A3: 離子鍍膜(PVD鍍膜)技術,其原理是在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術,利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離,在電場的作用下,使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應產(chǎn)物沉
模具鍍膜工藝優(yōu)選企業(yè) 百樂真空-真誠為顧客
真空鍍膜對面涂層的要求:與鍍膜層要有良好的接觸性能; 與底涂層要有一定的相溶性;成膜性能與施涂性能優(yōu)良;具有適當?shù)臋C械強度;防潮、抗溶劑、耐腐蝕性能好。抗老化性能強。 由于產(chǎn)品的特殊需要,在面涂層上還可進一步施涂超硬涂層或彩色涂層等。 常用涂料: 真空鍍常用涂料有紫外光固化涂料、丙烯酰酯涂料、醇酸樹脂涂料、環(huán)氧樹脂涂料、聚氨酯涂料等。 濺鍍機設備與技能(磁控濺鍍) 濺鍍機由真空室,排氣系統(tǒng),濺射
近十多年,真空離子鍍技術的發(fā)展是較快的,它已經(jīng)成為了當代**的表面處理方法之一。我們通常所說的PVD鍍膜,指的就是真空離子鍍膜;通常所說的PVD鍍膜機,指的也就是真空離子鍍膜機。 Q3: 請問PVD鍍膜的具體原理是什么? A3: 離子鍍膜(PVD鍍膜)技術,其原理是在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術,利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離,在電場的作用下,使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應產(chǎn)物沉
公司名: 沈陽百樂真空技術有限公司
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電 話: 024-89730592
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