真空熱處理爐的特點:水冷裝置,真空熱處理爐的爐殼、爐蓋、電熱元件導(dǎo)別處置(水冷電極)、中間真空隔熱門等部件,均在真空、受熱狀態(tài)下工作。在這種較為不利的條件下工作,必須保證各部件的結(jié)構(gòu)不變形、不損壞,真空密封圈不過熱、不燒毀。由于真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作,因此該設(shè)備要滿足真空對環(huán)境的要求。因此,各部件應(yīng)該根據(jù)不同的情況設(shè)置水冷裝置,以保證真空熱處理爐能夠正常運行并有足夠的使用壽命。
采用低電壓大電流:在真空容器內(nèi),當真空空度為幾托一lxlo-1托的范圍內(nèi)時,真空容器內(nèi)的通電導(dǎo)體在較高的電壓下,會產(chǎn)生輝光放電現(xiàn)象。
真空蒸發(fā)鍍膜行業(yè)簡介
真空蒸發(fā)鍍膜是用空心陰極電子槍利用低電壓,大電流的空心陰極放電產(chǎn)生的等離子電子束作為加熱源。空心陰極電子槍用空心的鉭管作為陰極,坩鍋作為陽極,鉭 管附近裝有輔助陽極。利用空心陰極電子槍蒸鍍時,產(chǎn)生的蒸發(fā)離子能量高,離化率也高,因此,成膜質(zhì)量好。空心陰極電子槍對真空室的真空度要求比e型電子槍 低,而且是使用低電壓工作,相對來說,設(shè)備較簡單和安全,造價也低。在春秋戰(zhàn)國時期,人們在熔銅爐的基礎(chǔ)上進一步掌握了提高爐溫的技術(shù),從而生產(chǎn)出了鑄鐵。目前,在我國e型電子槍和空心陰極電子槍都已成功地應(yīng)用于蒸鍍及離子鍍的設(shè)備中。
蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過程形成薄膜。另一方面,從物理學(xué)角度來講,再密實的材料也是有空隙的,由于負壓的作用,隨著時間的推移空氣分子也會被“擠進”袋內(nèi),真空效果也會逐漸降低的。 對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且較終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,較終形成薄膜。
沈陽諾思真空技術(shù)有限公司(原沈陽天成真空技術(shù)有限責任公司)成立于2012年,是以**高真空技術(shù)為基礎(chǔ)、從事各種真空應(yīng)用設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)和銷售為一體的技術(shù)型企業(yè)。
詞條
詞條說明
低溫泵 低溫泵是利用低溫表面冷凝氣體的真空泵,又稱冷凝泵。低溫泵是獲得清潔真空的極限壓力低、抽氣速率大的真空泵,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體和集成電路的研究和生產(chǎn),以及分子束研究、真空鍍膜設(shè)備、真空表面分析儀器、離子注入機和空間模擬裝置等方面。 抽氣原理 在低溫泵內(nèi)設(shè)有由液氦或制冷機冷卻到較低溫度的冷板。它使氣體凝結(jié),并保持凝結(jié)物的蒸汽壓力**泵的極限壓力,從而達到抽氣作用。 低溫抽氣的主要作用是低溫冷凝、
真空熱處理爐是近年來得到較大發(fā)展的**熱處理設(shè)備,工件是在**低氣壓的空間里進行加熱和冷卻的。它具有質(zhì)量好、節(jié)能、安全和污染少等優(yōu)點。 真空爐的發(fā)熱體用低壓電,但電源電壓仍為380V,操作時仍需要安全用電。 真空爐制造時,應(yīng)確保不漏氣、不漏水。真空爐爐體和爐蓋等的密封是用橡膠件,因此需要用水隔層進行冷卻。若水漏到爐膛里時,爐膛溫度很高,會引起炸裂。真所以真空爐裝料后應(yīng)關(guān)閉爐門,將爐膛抽成真空后,方
真空鍍膜機讓鍍膜變得簡單 鍍膜過程大致可分為填充、抽真空、鍍制、冷卻等主要工序,以及與其相關(guān)的前后工序,如清洗、開關(guān)機、檢測等,使用真空鍍膜機可以提高鍍膜生產(chǎn)效率,減少勞動成本、人工成本,非常適用于大規(guī)模生產(chǎn),并滿足環(huán)保的要求,讓鍍膜變得簡單。真空鍍膜機有多種分類,按鍍膜工藝技術(shù)可以分為蒸發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜、多弧離子鍍膜等;按真空度可以分為低真空、中真空、高真空以及極限真空;按溫度可分為低溫、
真空熱處理爐的特點:水冷裝置,真空熱處理爐的爐殼、爐蓋、電熱元件導(dǎo)別處置(水冷電極)、中間真空隔熱門等部件,均在真空、受熱狀態(tài)下工作。在這種較為不利的條件下工作,必須保證各部件的結(jié)構(gòu)不變形、不損壞,真空密封圈不過熱、不燒毀。由于真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作,因此該設(shè)備要滿足真空對環(huán)境的要求。因此,各部件應(yīng)該根據(jù)不同的情況設(shè)置水冷裝置,以保證真空熱處理爐能夠正常運行并有足夠的使用壽命。 采用低電
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