a相納米氧化鋁VK-L30在AZO靶材上的應(yīng)用效果優(yōu)異
13305631332, qq: 1830343958
透明導(dǎo)電薄膜具有高可見(jiàn)光透過(guò)率和低電阻率的特點(diǎn),因此可以作為平面顯示器和太陽(yáng)能平面電極材料,也可用在節(jié)能方面。
隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展,銦資源嚴(yán)重短缺、成本高得問(wèn)題越來(lái)越**。目前,可替代ITO的材料是AZO、FTO、CZO、CTO等。FTO雖然性能上能達(dá)到要求,但在等離子體中定性差,原材料制備技術(shù)復(fù)雜、成本高;CZO、CTO都含有對(duì)環(huán)境不友好的Cd元素;而AZO透明導(dǎo)電薄膜的禁帶寬度達(dá)到3.4V,本征吸收限為360nm,可以作為薄膜電池的窗口層材料,其寬帶隙的特點(diǎn)可減少p,n型摻雜區(qū)對(duì)光的吸收,提高光能量的利用率。同時(shí),AZO透明導(dǎo)電薄膜電阻率低,可見(jiàn)光透過(guò)率高,是良好的前透明層材料,與其他幾種材料相比,AZO還具有等離子體穩(wěn)定性高、制備技術(shù)簡(jiǎn)單、原材料便宜易得、無(wú)毒等特點(diǎn)。這些特點(diǎn)使得AZO薄膜在薄膜太陽(yáng)能電池領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。目前,化學(xué)組成m(ZnO):m(Al2O3)=98:2的AZO已經(jīng)實(shí)現(xiàn)規(guī)模化應(yīng)用。
隨著透明導(dǎo)電薄膜的應(yīng)用發(fā)展,AZO濺射靶材及其薄膜沉淀技術(shù)成為研究熱點(diǎn),但AZO靶材熱壓制備研究未見(jiàn)公開(kāi)報(bào)導(dǎo),有關(guān)AZO靶材原料粉體性能及靶材性能與薄膜性能的關(guān)系研究很少。因此,本實(shí)驗(yàn)以ZnO和Al2O3為原料,在不同溫度下制備AZO靶材,并將其作為濺射源進(jìn)行射頻磁控鍍膜測(cè)試,具有研究靶材的密度與孔徑分布對(duì)薄膜光電性能的影響。
1 實(shí)驗(yàn)
采用ZnO和Al2O3粉為原料,質(zhì)量比為98:2,球磨混合32h后于1000度煅燒制備出混合均勻的原料粉體在惰性氣體保護(hù)氣氛中熱壓制備AZO靶材。壓力設(shè)定為18Mpa,熱壓溫度為850度、950度、1050度、1150度,升溫速率為20度/min,保溫時(shí)間為30min。
2 結(jié)果與討論
2.1 原料粉的成分與結(jié)構(gòu)分析
經(jīng)過(guò)球磨混合、煅燒處理后的原料粉成分分布和形貌如圖1所示。由圖1可以看出,混合原料粉中Al分布較均勻,無(wú)明顯富集。根據(jù)面積平均法計(jì)算得:原料粉的平均粒徑為80nm,屬于納米級(jí)。
原料粉體的結(jié)構(gòu)如圖二所示。原料粉XRD中ZnAl2O4尖晶石衍射峰的細(xì)節(jié)如圖3所示。
2.2 靶材的密度與薄膜光電性能
熱壓是對(duì)置于限度形狀的模具中松散粉末或粉末壓坯加熱的同時(shí)對(duì)其施加壓力的燒結(jié)過(guò)程。隨著溫度的升高,原子的擴(kuò)散能力增強(qiáng),兩個(gè)表面的原子就能越過(guò)顆粒間勢(shì)壘而鍵和。
圖4是熱壓溫度對(duì)AZO靶材密度的影響。由圖4可以看出,隨著熱壓溫度的不斷升高,原子擴(kuò)散能力增強(qiáng),通過(guò)物質(zhì)的傳遞,坯體總體積收縮,孔隙率迅速減小,靶材相對(duì)密度從51.7%升到94.79%。
AZ0靶材致密度對(duì)薄膜的沉積速率及其光電性能都有一定的影響。圖5顯示的是靶材密度與薄膜沉積速率的關(guān)系。靶材密度越高,孔隙率越小,薄膜的沉積速率越快。
圖6是靶材密度、濺射功率與薄膜電阻率的關(guān)系圖。在AZO薄膜中,一個(gè)Al原子替代一個(gè)Zn原子形成了一個(gè)正電中心和一個(gè)多余的價(jià)電子,這兩者之間是弱束縛。另外,氧離子脫落晶格結(jié)合成氧氣溢出并形成氧缺位,缺位電離出的電子容易被鋅離子俘獲,被俘獲電子與鋅離子之間也是弱束縛,這2種機(jī)制產(chǎn)生的電子很容易被激發(fā)到導(dǎo)帶上形成載流子。所以薄膜中的載流子來(lái)源于氧缺位和替位摻雜,薄膜的電阻率主要取決于載流子的濃度和遷移率。
由圖6可以看出,靶材的致密度越高,沉積薄膜電阻率越低。根據(jù)沉積速率測(cè)試結(jié)果,靶材密度越高,薄膜沉積速率越快。較高的沉積速率可以增加沉積薄膜的均勻性,同時(shí)由于晶粒生長(zhǎng)快,薄膜內(nèi)部的位錯(cuò)等缺陷減少,由此而引入的懸空鍵減少,復(fù)活的載流子亦減少,提高了薄膜中的載流子濃度,故而所得薄膜的電阻率較低。
研究資料表明,薄膜的透光率與濺射功率也有一定的關(guān)系。隨著濺射功率增加,薄膜透光率下降。從圖7可以看出,靶材密度越高,這種影響關(guān)系也越明顯。
高密度靶材的表面沉積速率較快,尤其是在較高的功率下,膜層與基片的粘附能力及膜層的致密性都有所提高,薄膜晶體結(jié)構(gòu)得到進(jìn)一步優(yōu)化,從而使導(dǎo)帶上具有相當(dāng)高的自由電子濃度,降低了薄膜電阻率。但是較高的載流子濃度將引起可見(jiàn)光和紅外區(qū)電磁輻射的吸收,使薄膜在可見(jiàn)光范圍內(nèi)透光率下降。
圖8是相對(duì)密度為94.79%的靶材在濺射功率為30W下的透光率曲線。圖8中T代表平均透過(guò)率,D代表薄膜厚度??梢钥闯?,該靶材不同沉積時(shí)間下的表面透光率均大于80%.相對(duì)密度為94.79%的靶材在衍射功率為30W下沉積20min所制備的表面的結(jié)構(gòu)、外形和成分分布如圖9-圖11所示。
綜上所述,相對(duì)密度為97.79%的靶材沉積20min所制備的表面平均透過(guò)率為85.5%,電阻率為3.14×10-4 Ω·cm ,具有(002)擇優(yōu)取向,平均晶粒為27.3nm,在放大倍數(shù)為5000倍時(shí)線掃描成分分布均勻,滿足表面太陽(yáng)能對(duì)透明導(dǎo)電薄膜的要求。
2.2靶材孔徑分布與薄膜光電性能
圖12是2中原料熱壓靶材的孔徑分布測(cè)試結(jié)果。由圖12可以看出,煅燒處理后的原料粉熱壓制備的靶材孔徑分布在151-349nm,分布范圍高度集中,占?xì)饪卓傮w積的99.55。未經(jīng)煅燒處理的原料粉熱壓制備的靶材孔徑范圍較寬,主要分布在151-1085nm,其中不同區(qū)間的氣孔體積比較接近,沒(méi)有明顯的孔徑集中。
在濺射功率30W下,將以上2種AZO靶材分別濺射40min制備薄膜。表2是薄膜光電性能測(cè)試結(jié)果由表2可以看出,平均孔徑較大,孔徑分布范圍較寬的靶材,沉積薄膜電阻率較高,薄膜透光率變化不大。
2.3 耐濺鍍測(cè)試
靶材的使用壽命是指靶材在一定的功率下連續(xù)穩(wěn)定濺射沉積薄膜時(shí)間。靶材出現(xiàn)開(kāi)裂、擊穿、中毒等現(xiàn)象,就會(huì)嚴(yán)重影響沉積薄膜的質(zhì)量,降低靶材的使用壽命。將不同密度的靶材靶材分別在功率150W連續(xù)濺射1h,濺射靶材的直徑為70mm(功率密度為3.9W/cm2),結(jié)果如表3所示。
測(cè)試結(jié)果如表3所示,相對(duì)密度大于80%靶材連續(xù)濺射1h之后,表面平整無(wú)裂紋,使用壽命大于150W·h;密度**80%的靶材,在150W功率下持續(xù)60min發(fā)生開(kāi)裂,使用壽命小于150W·h。由此驗(yàn)證較低密度的靶材在長(zhǎng)時(shí)間高功率濺射下較容易發(fā)生開(kāi)裂。
詞條
詞條說(shuō)明
6N高純氧化鋁在高壓SF6斷路器噴口原料PTFE上的應(yīng)用
? 6N高純氧化鋁在高壓SF6斷路器噴口原料PTFE上的應(yīng)用 13305631332,?? 13305631650,qq: 1830343958 使用性能: 1. 高純氧化鋁能顯著提高PTFE耐高溫絕緣性能。 復(fù)合PTFE相對(duì)介電常數(shù)隨溫度的升高而減小,隨填料的增加而增大。在相同添加量的情況下,加入BN的復(fù)合PTFE相對(duì)介電常數(shù)較小,其次是高純氧化鋁(Al2O3),加
a相納米氧化鋁VK-L30在AZO靶材上的應(yīng)用效果優(yōu)異
? a相納米氧化鋁VK-L30在AZO靶材上的應(yīng)用效果優(yōu)異 13305631332,?? qq: 1830343958 ? 透明導(dǎo)電薄膜具有高可見(jiàn)光透過(guò)率和低電阻率的特點(diǎn),因此可以作為平面顯示器和太陽(yáng)能平面電極材料,也可用在節(jié)能方面。 ?? 隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展,銦資源嚴(yán)重短缺、成本高得問(wèn)題越來(lái)越**。目前,可替代ITO的材料是AZO
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