陶瓷金屬化鍍層測(cè)厚解決方案

       陶瓷—金屬化封接技術(shù)廣泛應(yīng)用于電子管、真空開關(guān)管等真空電器中,其中*為關(guān)健的技術(shù)是陶瓷金屬化,金屬化質(zhì)量的好壞,取決于陶瓷自身的質(zhì)量外,其金屬化工藝、金屬化的厚度及其均勻度,電鍍鎳或燒結(jié)鎳厚度和致密度,也是保證金屬化質(zhì)量的關(guān)鍵因素。
    
    
        前期陶瓷金屬化層,鎳層厚度的測(cè)量,均采用抽樣破壞性的測(cè)量,且測(cè)量方法粗陋,不,從而業(yè)內(nèi)**急盼快速、無(wú)損測(cè)厚儀器,X熒光射線無(wú)損金屬化瓷件厚度儀的出現(xiàn),是陶瓷—金屬化封接技術(shù)的**和提升,也是堅(jiān)強(qiáng)的后盾。
    
    
        X射線熒光法(XRF)鍍層測(cè)厚儀:能量X熒光光譜側(cè)厚法(質(zhì)量膜厚)
    
    
        測(cè)試原理:XRF鍍層測(cè)厚儀測(cè)厚是通過(guò)X射線激發(fā)各種物質(zhì)(如Mo、Ag、Mn)的特征X射線,然后測(cè)量這被釋放出來(lái)的特征X射線的能量對(duì)樣品進(jìn)行進(jìn)行定性,測(cè)量這被釋放出來(lái)的特征X射線的強(qiáng)度與標(biāo)準(zhǔn)片(或者對(duì)比樣)對(duì)比得出各物質(zhì)的厚度,這種強(qiáng)度和厚度的對(duì)應(yīng)關(guān)系在軟件后臺(tái)形成曲線。而各種物質(zhì)的強(qiáng)度增加,厚度值也增加,但不是直線關(guān)系;通過(guò)標(biāo)樣和軟件及算法(算法有FP法和經(jīng)驗(yàn)系數(shù)法)得到一個(gè)*接近實(shí)際對(duì)應(yīng)關(guān)系的曲線。
    
    
        X熒光射線(XRF)測(cè)厚儀器特點(diǎn)
    
    
        1、鍍層分析快速、無(wú)損,對(duì)樣品*任何處理。一般測(cè)試一個(gè)點(diǎn)只需要數(shù)10秒~3分鐘,分析精度高。
    
    
        X熒光分析儀鍍層測(cè)厚儀是光物理測(cè)量,其對(duì)測(cè)試樣品不會(huì)產(chǎn)生任何的物理、化學(xué)變化,因此,其屬于無(wú)損測(cè)量。同時(shí)對(duì)測(cè)試的樣品不需要任何處理,分析速度較加快捷。
    
    
        2、可測(cè)試**薄鍍層,如:在測(cè)試鍍金產(chǎn)品時(shí),*可測(cè)試0.01米的鍍層厚度,這是其他測(cè)厚設(shè)備無(wú)法達(dá)到的。
    
    
        X熒光鍍層測(cè)厚儀通過(guò)射線的方式來(lái)檢測(cè)鍍層的厚度,因此,其對(duì)樣品的表面物質(zhì)測(cè)試*為靈敏,因此,其非常適合測(cè)試**薄鍍層,也是目前**薄鍍層常用的測(cè)量方法。
    
    
        3、可測(cè)試多鍍層,分析精度遠(yuǎn)遠(yuǎn)**其他測(cè)量方法。
    
    
        X射線具有一定的穿透能力,因此,在測(cè)試鍍層時(shí),它可以穿透多層鍍層,通過(guò)每層鍍層產(chǎn)生的特征X射線計(jì)算其厚度,并可分析其鍍層的組成。
    
    
        4、可分析合金鍍層厚度和成分比,這是其他測(cè)厚設(shè)備不能做到的。
    
    
        5、對(duì)于樣品可進(jìn)行連續(xù)多點(diǎn)測(cè)量,適合分析鍍層的厚度分布情況并可以對(duì)樣品的復(fù)雜面進(jìn)行測(cè)量。
    
    
        由于X熒光的無(wú)損分析方法,同時(shí)儀器高度的自動(dòng)化控制技術(shù),保證測(cè)試中可以進(jìn)行連續(xù)多點(diǎn)測(cè)量,不但提高測(cè)試效率,同時(shí)可以分析測(cè)試樣的厚度分布情況。
    
    
        6、對(duì)分析的多鍍層每層之間的材料,要求有明顯的區(qū)別,即,每層樣品元素有明顯的差別。
    
    
        由于X熒光是通過(guò)特征X射線,對(duì)被測(cè)樣品進(jìn)行厚度分析的,因此每層鍍層的材料應(yīng)有明顯的區(qū)別。
    
    
        7、不可以測(cè)試**厚樣品,普通金屬鍍層總厚度一般不**過(guò)30微米。根據(jù)各種元素的能量不同,測(cè)量范圍都不相同,如:
    
    
        原子序25~40,約0.01~30um原子序41~51,約0.02~70um,但是陶瓷上的涂層因?yàn)槊芏认鄬?duì)普通金屬電鍍工藝,密度會(huì)小,所以可以測(cè)試較厚,比如未燒結(jié)的MoMn涂層可以測(cè)試150微米以上.
    
    
        8、可以對(duì)較小樣品進(jìn)行測(cè)試,例如:螺絲、電路板焊盤、接插件的插針等。可以將X射線照射在樣品的光斑調(diào)到很小的地步(*小可以達(dá)到微米級(jí),因此,**小樣品的測(cè)試非常容易。
    
    
        9、屬于對(duì)比分析儀器,測(cè)試不同的鍍層樣品需要不同的鍍層標(biāo)樣,雖然有FP法的測(cè)試軟件,但在精準(zhǔn)測(cè)試中,一定需要標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行校對(duì),因此,企業(yè)應(yīng)用中采用標(biāo)樣校對(duì)的方法是*常見的。
    
    
        10、針對(duì)不同的鍍層測(cè)試對(duì)象,可選擇不同結(jié)構(gòu)的X熒光分析儀器。例如:上照射和下照射的設(shè)備;探測(cè)器分為正比計(jì)數(shù)器和半導(dǎo)體探測(cè)器的等,他們都有各自的優(yōu)缺點(diǎn)。

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  • 陶瓷金屬化鍍層測(cè)厚解決方案

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