某半導(dǎo)體工廠在生產(chǎn)線上氣體輸送環(huán)節(jié)的氣體管路系統(tǒng)采用伯東 HVA 不銹鋼真空閘閥 11000 ,作為真空隔離密封.
HVA 是真空技術(shù)創(chuàng)新者的真空閥門(插板閥), 是高真空閥門的主要制造商和供應(yīng)商.
在設(shè)計真空系統(tǒng)時, 可以輕松集成 HVA 閥門. HVA 閘閥從5/8英寸(16毫米)到32英寸(800毫米), 而矩形/狹縫閥的大距離為80英寸(2m), 可以滿足您的真空閥門(插板閥)要求. 無論您是升級現(xiàn)有的真空系統(tǒng)還是 OEM 設(shè)計新的系統(tǒng), HVA 都可以提供經(jīng)濟的替代閥門解決方案.
HVA 真空閥門(插板閥)的閥體和所有主要內(nèi)部組件都是內(nèi)部釬焊的真空爐, 了虛擬泄漏的可能性, 閥體變形小化.
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詞條說明
美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機應(yīng)用
上海伯東某客戶在熱蒸發(fā)鍍膜機中配置美國?KRi 考夫曼離子源?KDC 40, 進行鍍膜前基片預(yù)清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD 工藝, 通過同時的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應(yīng)力, 工藝效率等.離子源鍍膜前基片預(yù)清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD考夫曼離子源 KDC 40 到基片距離控制在 3
? ?? ? ?黑膜鍍制,?是指將入射到材料表面的光線,?包括紫外光、可見光、近紅外光以及中遠紅外波段的光,?幾乎全部吸收而基本沒有反射的表面處理技術(shù).?高的吸收率使黑膜有著廣闊的應(yīng)用前景.?如可在精密光學(xué)儀器和光學(xué)零件、醫(yī)療儀器、航空航天、外觀裝飾品等產(chǎn)品上得到廣泛使用,?可大幅度提高產(chǎn)
Pfeiffer?分子泵組應(yīng)用于紅外原位分析平臺紅外原位瞬態(tài)反應(yīng)過程分析實驗平臺是與世界實驗室同步水平研究的變溫變壓綜合實驗設(shè)備, 由原位吸附高真空系統(tǒng), 低溫系統(tǒng), 氣液物料, 探針凈化控制系統(tǒng)和壓力突變等部件組成, 可用于開展樣品的熱脫附, 熱解, 探針分子飽和吸附和探針分子脈沖微吸附等復(fù)雜反應(yīng)過程研究.紅外原位分析平臺的主要特點是對固體材料進行嚴格的高真空和高溫預(yù)處理, 可在高真空
殘余氣體分析儀應(yīng)用于高溫真空爐, 實現(xiàn)質(zhì)量保證和過程優(yōu)化
殘余氣體分析儀應(yīng)用于高溫真空爐, 實現(xiàn)質(zhì)量保證和過程優(yōu)化上海伯東某客戶生產(chǎn)研發(fā) X 射線管及組件, 使用德國 Pfeiffer?Hicube RGA 殘余氣體分析儀與高溫真空爐連接, 測試產(chǎn)品在不同溫度下?lián)]發(fā)的產(chǎn)物變化, 進一步分析產(chǎn)品的耐用性以及使用形態(tài). 實現(xiàn)真空過程相關(guān)的質(zhì)量控制, 滿足 X 射線管工藝要求.殘余氣體分析儀質(zhì)量保證和過程優(yōu)化諸如提供氣體成分定量測定, 確定過程氣體純
公司名: 伯東企業(yè)(上海)有限公司
聯(lián)系人: 葉南晶
電 話: 021-50463511
手 機: 13918837267
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地 址: 上海浦東高橋上海浦東新區(qū)新金橋路1888號36號樓7樓702室
郵 編:
網(wǎng) 址: hakuto2010.cn.b2b168.com
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