直讀光譜儀常用光源的放電方式有哪些?

    直讀光譜儀,目前常用的光源有以下兩種:一是經典光源包括電弧及火花光源,二是等離子體光源居多。其中在冶金分析中廣泛應用的有高壓控波光源、低壓火花高速光源和高能預火花光源。那么光譜分析常用光源的放電方式有哪些呢?

    1. 高能預火花放電較大電流可達150安和燃燒時間為150微秒,這樣使試樣中燃燒斑點內的組織結構較加均勻,由此來消除元素之間干擾及元素之間結合等效應。

    2.火花型放電對大多數(shù)元素重現(xiàn)性好。

    3.電弧型放電重現(xiàn)性要比火花放電差2—3倍,但對痕量元素檢出限要低得多。

    因此在選擇光源時應盡量滿足以下要求:

    1.高靈敏度,隨著樣品中元素濃度微小變化,其檢出的信號有較大的變化;

    2.低檢出限,能對微量及痕量成分進行檢驗;

    3.良好的穩(wěn)定性,試樣能穩(wěn)定的蒸發(fā)、原子化和激發(fā),使結果具有較高的精密度:

    4.譜線強度與背景強度之比大(信噪比大);

    5. 分析速度快,預燃時間短;

    6.構造簡單,容易操作,安全;

    7.自吸收效應小,校準曲線的線性范圍寬。

    光源激發(fā)條件的選擇是由分析對象經過試驗來決定的。不同的試樣在不同的光源下,它的預燃時間是不一樣的,因為試樣在火花放電時的蒸發(fā)過程,它不僅與光源的能量、放電氣氛密切有關以外,還與試樣組成、結構狀態(tài)、夾雜物種類、大小等等密切有關。

    創(chuàng)想直讀光譜儀


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