等離子清洗機，等離子表面處理機在電子行業(yè)的應(yīng)用

時間：2020-01-05

等離子表面處理機,等離子清洗機的應(yīng)用領(lǐng)域廣泛,手機行業(yè),電子行業(yè)，噴涂行業(yè),橡塑行業(yè)等噴涂前都需要用等離子表面活化處理,增加產(chǎn)品表面潔凈度,提高表面活性,從而提高材料表面的附著力.

1.硬盤塑料件

科學(xué)的發(fā)展，技術(shù)的不斷進步，電腦硬盤的各項性能也不斷提高，其容量越來越大，碟片數(shù)量隨之增多，轉(zhuǎn)速也高達7200轉(zhuǎn)/分，這對硬盤結(jié)構(gòu)的要求也越來越高，硬盤內(nèi)部部件之間連接效果直接影響硬盤的穩(wěn)定性、工作可靠性、使用壽命，這些因素直接關(guān)系到數(shù)據(jù)的安全性。

為了確保硬盤的質(zhì)量，**硬盤生產(chǎn)廠家對內(nèi)部塑料件在粘接前均進行各種處理，目前應(yīng)用較多的是等離子處理技術(shù)，使用該技術(shù)能有效清潔塑料件表面油污，并能增加其表面活性，即能提高硬盤部件的粘接效果。實驗表明，硬盤中使用等離子處理過的塑料件在使用過程中持續(xù)穩(wěn)定運行時間顯著增加，可靠性及抗碰撞性能有明顯的改善。

2.耳機聽筒

耳機中的線圈在信號電流的驅(qū)動下帶動振膜不停的振動，線圈和振膜以及振膜與耳機殼體之間的粘接效果直接影響耳機的聲音效果和使用壽命，如果它們之間出現(xiàn)脫落就會產(chǎn)生破音，嚴重影響耳機的音效和壽命。

振膜的厚度非常薄，要提高其粘接效果，使用化學(xué)方法處理，直接影響振膜的材質(zhì)，從而影響音效。眾多廠家正準備使用新技術(shù)來對振膜進行處理，等離子處理就是其中之一，該技術(shù)能有效提高粘接效果，滿足需求，且不改變振膜的材質(zhì)。經(jīng)實驗，用等離子清洗機處理生產(chǎn)的耳機，各部分之間的粘接效果明顯改善，在長時間高音測試下也不會有破音等現(xiàn)象發(fā)生，使用壽命也有很大的提高。

3.手機外殼

手機的種類繁多，外觀是多彩多樣，其顏色鮮艷，Logo醒目，但使用手機的人都知道，手機在使用一段時間后，其外殼容易掉漆，甚至Logo也變得模糊不清，嚴重影響手機的外觀形象。

等離子表面處理技術(shù)不僅可以清洗外殼在注塑時留下的油污，能大程度的活化塑料外殼表面，增強其印刷、涂覆等粘接效果，使得外殼上涂層與基體之間非常牢固地連接，涂覆效果非常均勻，外觀加亮麗，并且耐磨性大大增強，長時間使用也不會出現(xiàn)磨漆現(xiàn)象。

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詞條
詞條說明
等離子清洗機應(yīng)用于線路板行業(yè)
等離子清洗機對PCB電路板的表面處理:背板、HDI、FPC、軟硬結(jié)合板、高速等特殊材料孔內(nèi)除膠渣，HDI鐳射盲孔內(nèi)碳化物清洗，PTFE板的活化及孔內(nèi)鉆污清洗、FPC、PI、軟硬結(jié)合板、Cover lay表面粗化及清洗。等離子清洗機有幾種稱謂，英文叫（Plasma Cleaner）又稱等離子體清洗機,等離子清洗器,等離子清洗儀,等離子刻蝕機，等離子表面處理機,電漿清洗機，plasma清洗機，等離子去
等離子清洗機提升電極片的粘接性能
等離子清洗機用于各種材料的表面改性。其通過含有帶電的正離子和負離子氣體噴射被粘接面，其能量可以通過輻射、中性粒子流和離子流的碰撞作用于被粘接面，從而產(chǎn)生自由基或材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，同時，被粘接表面會發(fā)生刻蝕、聚合、交聯(lián)等物理和化學(xué)變化。等離子體清洗機的改性只對材料表面（通常從幾納米到幾百納米）進行改性，并不影響材料本身的基本性能。電池電芯等離子清洗機的表面處理的應(yīng)用：1、鋰電池焊接前對較耳的清洗
大氣常壓與真空等離子體清洗機設(shè)備區(qū)別
大氣常壓等離子清洗機又稱常壓射流等離子處理機，即在普通大氣的環(huán)境下進行等離子清洗。大氣等離子清洗機由等離子發(fā)生器、氣體輸送管及等離子處理工作站等部分組成。等離子發(fā)生器產(chǎn)生高壓高頻能量在噴頭鋼管中被激活和被控制的輝光放電中產(chǎn)生了低溫等離子體，借助壓縮空氣將等離子體噴向工件表面，當(dāng)?shù)入x子體與被處理物體表面相遇時，產(chǎn)生了化學(xué)作用和物理變化，表面得到了清潔，去除了碳化氫類污物，如油脂、輔助添加劑等，根據(jù)材
等離子清洗機設(shè)備在集成電路和MEMS行業(yè)的應(yīng)用
????在集成電路或MEMS微納米加工前道工序中，晶圓表面會涂上光刻膠，然后光刻，顯影，但光刻膠只是圖形轉(zhuǎn)化的媒介，當(dāng)光刻后在光刻膠上形成微納米圖形后，需要進行下一步的生長或刻蝕的工藝，之后需要用某種方法把光刻膠去除。等離子體去膠機可實現(xiàn)此功能。它用射頻或微波方式產(chǎn)生等離子體，同時通入氧氣或其他氣體，等離子體與光刻膠進行反應(yīng)，形成氣體被真空泵抽走等離子清