真空鍍膜設(shè)備的環(huán)境要求

              由于真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作,因此該設(shè)備要滿足真空對環(huán)境的要求。我國制減定的各類真空鍍膜設(shè)備的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)(包括真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件、真空離子鍍膜設(shè)備、真空濺射鍍膜設(shè)備、真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備)都對環(huán)境要求作了明確規(guī)定。只有滿足了真空鍍膜設(shè)備對環(huán)境的要求,才能使該設(shè)備正常運轉(zhuǎn),加上正確的鍍膜工藝,方能生產(chǎn)出合格的鍍膜產(chǎn)品。

    真空對環(huán)境的要求,一般包括真空設(shè)備對所處實驗室(或車間)的溫度、空氣中的微粒等周圍環(huán)境的要求,和對處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面的要求兩個方面。這兩個方面是有密切聯(lián)系的。周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用;而真空設(shè)備的真空室或裝人里面的零件是否清洗,又直接影響設(shè)備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵,在真空室沒有經(jīng)過清洗的情況下,用油封機械泵去抽氣,要達到預(yù)期的真空度是很難的。眾所周知,油封式機械泵不適宜抽除對金屬有腐蝕性、對真空油起化學(xué)反應(yīng)的以及含有顆粒塵埃的氣體。水蒸氣為可凝性氣體,當(dāng)泵大量抽除可凝性氣體時,對泵油的污染會較加嚴(yán)重,結(jié)果使泵的極限真空下降,破壞了泵的抽氣性能。

    工業(yè)環(huán)境中的粉塵是以粉狀體、煙霧體、粉塵來區(qū)分的。粉狀體是粉末或固體顆粒的集合或分散狀態(tài)的物質(zhì)。所謂粉末是指微小的固體顆粒的集合,而顆粒是指能夠一個一個計數(shù)的微小物質(zhì)。煙霧體是以固體或液體的微小顆粒呈浮狀態(tài)存在于氣體中的物質(zhì)體系。物質(zhì)無論是固體或液體,凡是呈顆粒狀態(tài)均統(tǒng)稱為塵粒。以塵粒直徑的大小來確定空氣清潔度的標(biāo)準(zhǔn),從而制訂出潔凈室的等級。不僅適合于有潔凈要求的工業(yè)要求,也適合于真空對潔凈環(huán)境的要求。


    廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司專注于真空鍍膜,真空鍍膜設(shè)備,真空鍍膜生產(chǎn)商等

  • 詞條

    詞條說明

  • 磁控濺射鍍膜設(shè)備

    ? ? ? ? 該設(shè)備集磁控濺射與離子鍍膜技術(shù)為一體,對提高顏色一致性、沉積速率及化合物成份的穩(wěn)定性提供了解決方案。根據(jù)不同的產(chǎn)品需求,可選配加熱系統(tǒng)、偏壓系統(tǒng)、離化系統(tǒng)等裝置,其靶位分布可靈活調(diào)整,膜層均勻性優(yōu)越,配備不同的靶材,可鍍制出性能較好的復(fù)合膜層。設(shè)備所鍍制的膜層具有附著力強,致密性高的優(yōu)點,可有效提高產(chǎn)品的耐鹽霧性、耐磨性及產(chǎn)品表面硬度,滿足了

  • 多弧離子真空鍍膜技術(shù)特點

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  • 立式濺射鍍膜設(shè)備的優(yōu)勢及應(yīng)用行業(yè)

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  • 磁控濺射鍍膜設(shè)備工作原理

    ? ? ? ? ?磁控濺射是一個運行模式的二級濺射。它與二,四級濺射的主要不同點;一是,在濺射的陰極靶后面設(shè)置了*磁鋼或電磁鐵。在靶面上產(chǎn)生水平分量的磁場或垂直分量的磁場,由氣體放電產(chǎn)生的電子被束縛在靶面附近的等離子區(qū)內(nèi)的特定軌道內(nèi)運轉(zhuǎn);受電場力和磁場力的復(fù)合作用,沿一定的跑道作旋轉(zhuǎn)輪轉(zhuǎn)圈。? ? ? ?

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