等離子清洗機(jī),等離子去膠機(jī)工藝原理及使用

    等離子清洗機(jī),等離子去膠機(jī)工藝原理及使用
    1) 等離子清洗機(jī),等離子去膠機(jī)反應(yīng)機(jī)理:
       在干法等離子去膠技術(shù)中,氧是首要腐蝕氣體。它在真空等離子去膠機(jī)反響室中受高頻及微波能量效果,電離發(fā)生氧離子、游離態(tài)氧原子 O*、氧分子和電子等混合的等離子體,其間具有強(qiáng)氧化才能的游離態(tài)氧原子 (約占 10-20%)在高頻電壓效果下與光刻膠膜反響: O2O*+ O*, CxHy + O*CO2+ H2O↑。反應(yīng)后生成的 CO2 H2O,隨即被抽走。
    2) 等離子清洗機(jī),等離子去膠機(jī)操作方法:
       將待去膠片插入石英舟并平行氣流方向,推入真空室兩電間,抽真空到 1.3Pa,通入恰當(dāng)氧氣,堅(jiān)持反響室壓力在 1.3-13Pa,加高頻功率,在電間發(fā)生淡紫色輝光放電,經(jīng)過(guò)調(diào)理功率、流量等技術(shù)參數(shù),可得不一樣去膠速率,當(dāng)膠膜去凈時(shí),輝光不見(jiàn)。
    3)等離子去膠影響要素:
       頻率挑選:頻率越高,氧越易電離構(gòu)成等離子體。頻率太高,以致電子振幅比其平均自由程還短,則電子與氣體分子磕碰概率反而減少,使電離率降低。通常常用頻率為 13.56MHz2.45GHZ 。
       功率影響:關(guān)于必定量的氣體,功率大,等離子體中的的活性粒子密度也大,去膠速度也快;但當(dāng)功率增大到必定值,反響所能耗費(fèi)的活性離子到達(dá)飽滿,功率再大,去膠速度則無(wú)顯著添加。由于功率大,基片溫度高,所以應(yīng)根據(jù)技術(shù)需求調(diào)理功率。
       真空度的挑選:恰當(dāng)進(jìn)步真空度,可使電子運(yùn)動(dòng)的平均自由程變大,因而從電場(chǎng)**的能量就大,有利電離。別的當(dāng)氧氣流量必守時(shí),真空度越高,則氧的相對(duì)份額就大,發(fā)生的活性粒子濃度也就大。但若真空度過(guò)高,活性粒子濃度反而會(huì)減小。

    氧氣流量的影響:氧氣流量大,活性粒子密度大,去膠速率加速;但流量太大,則離子的復(fù)合概率增大,電子運(yùn)動(dòng)的平均自由程縮短,電離強(qiáng)度反而降低。若反響室壓力不變,流量增大,則被抽出的氣體量也添加,其間尚沒(méi)參與反響的活性粒子抽出量也隨之添加, 因而流量添加對(duì)去膠速率的影響也就不甚顯著。
    煙臺(tái)金鷹科技有限公司專注于等離子處理機(jī),等離子處理機(jī)廠家,等離子處理機(jī)價(jià)格等, 歡迎致電 13573547231

  • 詞條

    詞條說(shuō)明

  • 大氣常壓與真空等離子體清洗機(jī)設(shè)備區(qū)別

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