KRI 離子源應(yīng)用于舞臺燈光濾光片鍍膜

時間：2024-01-10作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：82

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• HVA 真空閥門應(yīng)用于亞洲*大的粒子系統(tǒng)

  因產(chǎn)品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。美國 HVA 真空閥門應(yīng)用于亞洲大的粒子系統(tǒng)上海伯東代理的美國 HVA 真空閥門應(yīng)用于中國研制的亞洲大的粒子系統(tǒng) ( 100MV ),當前世界上大的粒子系統(tǒng)為美國費密國立實驗室的一臺質(zhì)子同步 ( 200MV )上海伯東是美國 HVA 真空閥門在中國境內(nèi)的代理商, 負責HVA valve 真空閥門在中國地區(qū)的銷售和相關(guān)

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  某品牌?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機系統(tǒng)采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統(tǒng)停機時不破壞系統(tǒng)真空,?只要對泵內(nèi)部進行破真空即可.E-Beam?鍍膜機設(shè)備組成:?系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室,?電子,?進樣室 

• 分子泵組玻璃封管抽真空進行金屬燒結(jié)試驗

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• KRI 考夫曼射頻離子源濺射制備微晶硅薄膜

  硅薄膜作為薄膜太陽能電池的材料越來越引起人們的重視, 非晶硅薄膜太陽能電池由于存在轉(zhuǎn)換效率低和由 S-W 效應(yīng)引起的效率衰退等問題, 而微晶硅薄膜具有較高電導(dǎo)率、較高載流子遷移的電學(xué)性質(zhì)及優(yōu)良的光學(xué)穩(wěn)定性, 可以克服非晶硅薄膜的不足, 已成為光伏領(lǐng)域的研究熱點.?采用磁控濺射沉積硅薄膜不需要使用 SiH4 等有毒氣體及相應(yīng)的尾氣處理裝置, 有利于降低設(shè)備成本, 且工藝參數(shù)控制, 因此經(jīng)過