KRI 離子源用于離子束拋光機

時間：2024-01-10

離子束拋光適用于大面積、異型、特殊材料等加工對象的非接觸式修形及拋光, 精度可達亞納米級, 被譽為拋光. 離子束拋光機的部件是可聚焦的高能量離子源. 上海伯東某客戶為精密光學元器件設備制造商, 主要產(chǎn)品為離子束拋光機、磁流變拋光機等, 提供精密光學工藝制造研發(fā)服務, 是一家精密光學元器件解決方案提供商. 經(jīng), 該客戶采用上海伯東美國 KRi 直流電源式考夫曼離子源 KDC 系列成功應用于光學鍍膜離子束拋光機.

KRI 離子源用于離子束拋光機:

應用方向：非接觸式亞納米離子束表面修形

應用領域：半導體/精密光學

產(chǎn)品類別：高精密光學器件

加工指標：

1. 加工尺寸能力 5-1200mm ；

2. 采用非接觸式加工, 無邊緣效應, 不產(chǎn)生亞表面損傷；

3. 亞納米加工精度, 可實現(xiàn)面型 RMS<3nm 拋光能力；

4. 加工光學元器件形狀有：平面、球面、非球面、自由曲面、離軸非球面等；

5. 加工光學元器件材料有：石英玻璃、微晶、低膨脹玻璃、KDP 晶體、藍寶石、硅、碳化硅、紅外材料等.

美國 KRI 考夫曼公司新升級 Gridded KDC 系列離子源, 新的特性包含自對準離子光學和開關式電源控制. 考夫曼離子源 KDC 系列包含多種不同尺寸的離子源滿足各類應用. 考夫曼離子源通過控制離子的強度及濃度, 使拋光刻蝕速率快準確, 拋光后的基材上獲得平坦, 均勻性高的薄膜表面. KDC 考夫曼離子源內(nèi)置型的設計符合離子源在離子拋光機內(nèi)部的移動運行.

上海伯東美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 系列根據(jù)客戶離子拋光工藝條件提供如下型號:

型號	KDC 10	KDC 40	KDC 75	KDC 100	KDC 160
Discharge 陽	DC 電流	DC 電流	DC 電流	DC 電流	DC 電流
離子束流	>10 mA	>100 mA	>250 mA	>400 mA	>650 mA
離子動能	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V
柵直徑	1 cm Φ	4 cm Φ	7.5 cm Φ	12 cm Φ	16 cm Φ
離子束	聚焦, 平行, 散射
流量	1-5 sccm	2-10 sccm	2-15 sccm	2-20 sccm	2-30 sccm
通氣	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型壓力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
長度	11.5 cm	17.1 cm	20.1 cm	23.5 cm	25.2 cm
直徑	4 cm	9 cm	14 cm	19.4 cm	23.2 cm
中和器	燈絲

上海伯東同時提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域.

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上海伯東: 羅小姐

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詞條說明
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