【等離子處理機(jī)】等離子清洗機(jī)的清洗原理

    等離子清洗機(jī)的清洗原理

    等離子清洗機(jī)的清洗原理是在真空腔體里,通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體,通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面,以達(dá)到清洗目的。

    在這種情況下,等離子處理可以產(chǎn)生以下效果:

    1、灰化表面**層

    污染物在真空和瞬時(shí)高溫下的部分蒸發(fā),污染物被高能離子粉碎并被真空帶走。

    紫外輻射破壞污染物,由于等離子體處理每秒鐘只能穿透幾納米,所以污染層不應(yīng)該太厚。指紋也適用。

    2、氧化物去除

    這種處理包括使用氫或氫和氬的混合物。有時(shí)也采用兩步流程。第一步是用氧氣氧化表面5分鐘,第二步是用氫和氬的混合物除去氧化層。它也可以同時(shí)用幾種氣體處理。

    3、焊接

    通常,印刷電路板應(yīng)在焊接前用化學(xué)藥劑處理。焊接后,這些化學(xué)物質(zhì)必須用等離子體法去除,否則會(huì)引起腐蝕和其他問題。



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