MOS場效應(yīng)管廠家

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    MOS場效應(yīng)管即金屬-氧化物-半導(dǎo)體型場效應(yīng)管,英文縮寫為MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect-Transistor,即金屬氧化物合成半導(dǎo)體的場效應(yīng)晶體管),屬于絕緣柵型。


    根據(jù)導(dǎo)電方式的不同,MOSFET又分增強(qiáng)型、耗盡型。所謂增強(qiáng)型是指:當(dāng)VGS=0時(shí),管子是呈截止?fàn)顟B(tài);加上正確的VGS后,多數(shù)載流子被吸引到柵,從而“增強(qiáng)”了該區(qū)域的載流子,形成導(dǎo)電溝道。耗盡型則是指,當(dāng)VGS=0時(shí)即形成溝道,加上正確的VGS時(shí),能使多數(shù)載流子流出溝道,因而“耗盡”了載流子,使管子轉(zhuǎn)向截止。
    以N溝道為例,它是在P型硅襯底上制成兩個(gè)高摻雜濃度的源擴(kuò)散區(qū)N+和漏擴(kuò)散區(qū)N+,再分別引出源S和漏D。源與襯底在內(nèi)部連通,二者總保持等電位。電位方向是從外向里,表示從P型材料(襯底)指身N型溝道。當(dāng)漏接電源正,源接電源負(fù)并使VGS=0時(shí),溝道電流(即漏電流)ID=0。隨著VGS逐漸升高,受柵正電壓的吸引,在兩個(gè)擴(kuò)散區(qū)之間就感應(yīng)出帶負(fù)電的少數(shù)載流子,形成從漏到源的N型溝道,當(dāng)VGS大于管子的開啟電壓VTN(一般約為+2V)時(shí),N溝道管開始導(dǎo)通,形成漏電流ID。
    國產(chǎn)N溝道MOSFET的典型產(chǎn)品有3DO1、3DO2、3DO4(以上均為單柵管),4DO1(雙柵管)。
    MOS場效應(yīng)管比較“嬌氣”。這是由于它的輸入電阻很高,而柵-源間電容又非常小,易受外界電磁場或靜電的感應(yīng)而帶電,而少量電荷就可在間電容上形成相當(dāng)高的電壓(U=Q/C),將管子損壞。因此出廠時(shí)各管腳都絞合在一起,或裝在金屬箔內(nèi),使G與S呈等電位,防止積累靜電荷。管子不用時(shí),全部引線也應(yīng)短接。在測(cè)量時(shí)應(yīng)格外小心,并采取相應(yīng)的防靜電感措施。




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