離心機出現(xiàn)腐蝕現(xiàn)場需要進行及時處理,否則不僅引起操作安全隱患,對設(shè)備的損害進一步加劇,更是影響數(shù)據(jù)統(tǒng)計的準確性和生產(chǎn)質(zhì)量和效率的控制。離心機廠家對設(shè)備出現(xiàn)腐蝕損傷的幾個表現(xiàn)進行分析,幫助客戶準確把握離心機的運作狀態(tài)。
離心機的金屬腐蝕形態(tài)主要分為均勻腐蝕和局部腐蝕兩大類,前者因為表觀現(xiàn)象*發(fā)現(xiàn),而且在大多數(shù)手冊資料數(shù)據(jù)中都表述比較清楚,在此不作詳述,僅對后者進行一些探討。
高速離心機
離心機局部腐蝕只發(fā)生在局部,是一個*其嚴重、危害較大的一種破壞,如孔蝕、縫隙腐蝕、晶間腐蝕、應(yīng)力腐蝕,磨損腐蝕等。
1.孔蝕是一種高度腐蝕的現(xiàn)象,主要存在于易鈍化的金屬中,如不銹鋼等,由于表面局部存在的可能缺陷,溶液中又存在能破壞鈍化膜的活性離子(如鹵族離子),鈍化膜被局部破壞,從而形成電偶對,造成孔蝕??孜g形成后,由于離心力的作用,將加速孔內(nèi)電偶的動態(tài)過程,從而保證孔腐蝕的持續(xù)性,直至穿孔,這一點與靜態(tài)下的孔蝕現(xiàn)象不同。
2.晶間腐蝕會造成零件失去強度和延伸性,引起零件脆斷,它是一種從表面沿晶粒邊界向內(nèi)發(fā)展,外表面沒有腐蝕跡象的危害性損害。
3.磨損腐蝕即零件表面同時遭受磨損和腐蝕破壞。
4.應(yīng)力腐蝕是在腐蝕性環(huán)境中,由于受的拉應(yīng)力作用而引起的損害。它具備以下特征:殘余拉應(yīng)力、外加拉應(yīng)力、腐蝕性滲透環(huán)境、局部缺陷。
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詞條說明
光催化反應(yīng)儀又稱為光化學(xué)反應(yīng)儀,多功能光化學(xué)反應(yīng)器,光催化反應(yīng)裝置,多功能光化學(xué)反應(yīng)儀等。光催化反應(yīng)儀適合應(yīng)用于化學(xué)合成、環(huán)境保護及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域,光催化反應(yīng)儀系統(tǒng)具有技術(shù)合理、結(jié)構(gòu)簡單、操作便捷、運行穩(wěn)定、保護人體、自由組合、靈活定做等獨特優(yōu)勢!光催化反應(yīng)儀產(chǎn)品特點:1、光催化反應(yīng)儀電氣控制部分與保護反應(yīng)暗箱分開,裝配、維護、升級方便合理,整機大氣美觀!2、光催化反應(yīng)儀主控電源控制器光照時間
渦旋振蕩器使用說明:1、儀器使用前,打開電源開關(guān),先將調(diào)速調(diào)到小值,設(shè)置好時間2、裝容器瓶時,為了使儀器工作時平衡性能好,避免產(chǎn)生較大振動,裝瓶時應(yīng)將所有試瓶分布均勻,各瓶的容液應(yīng)大致相等。若容器瓶不足數(shù),可將試瓶對稱放置或裝入其它等量溶液的試瓶布滿空位。3、接通電源,打開電源開關(guān),指示燈亮,設(shè)置所需要的轉(zhuǎn)速,升至所需速度。渦旋振蕩器采用直流無刷電機和微電腦控制技術(shù)。獨特的旋鈕操作模式簡單易用,通
全溫振蕩培養(yǎng)箱如何去做好維護和保養(yǎng)呢?
全溫振蕩培養(yǎng)箱適用于環(huán)境保護、衛(wèi)生防疫、農(nóng)畜、藥檢、水產(chǎn)等科研、院校實驗和生產(chǎn)部分,對于實驗室中的常用設(shè)備是需要經(jīng)常保養(yǎng)和維護的,正確的對以前進行保養(yǎng),能使它處于一個良好的工作狀態(tài),同時也可以延長使用壽命,全溫振蕩培養(yǎng)箱如何去做好維護和保養(yǎng)呢? 1、全溫振蕩培養(yǎng)箱在連續(xù)工作期間,每三個月應(yīng)做一次定期檢查; 2、檢查是否有水滴,污物等落入電機和外露的制冷元件上;清理壓縮機,冷凝器上的灰塵和污物;檢查
1. 設(shè)備放置:將低溫恒溫槽放置在穩(wěn)固的工作臺上,并確保周圍環(huán)境通風(fēng)良好,遠離熱源和直射陽光。2. 檢查電源:確保電源連接正確,電壓符合設(shè)備要求,并具有良好的接地。3. 使用介質(zhì):根據(jù)設(shè)備要求選擇合適的冷卻介質(zhì),如去離子水、防凍液或制冷劑。4. 預(yù)熱和預(yù)冷:在使用前,可能需要對設(shè)備進行預(yù)熱或預(yù)冷,以達到的工作狀態(tài)。5. 溫度設(shè)定:根據(jù)實驗需求合理設(shè)定溫度,避免設(shè)置過低的溫度導(dǎo)致設(shè)備負荷運行或介質(zhì)結(jié)
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