磁控濺射真空鍍膜膜層不均的因素有哪些?影響膜層的主要因素有:真空狀態(tài)、磁場、氬氣。
真空狀態(tài)需要由抽氣系統(tǒng)控制,每個出口應(yīng)同時啟動,并具有相同的強度,以控制抽氣的均勻性。如果抽氣不均勻,真空室內(nèi)的壓力就會不均勻,壓力對離子的運動就有一定的影響。此外,還應(yīng)控制抽氣時間。過短會導(dǎo)致真空度不足,但過長會浪費資源。因為真空計的存在,控制好是沒有問題的。
磁場是正交的,但不可能達(dá)到**均勻的磁場強度。一般磁場強的地方,成膜厚度大,反之就小,會導(dǎo)致膜厚度不一致。但在生產(chǎn)過程中,由于磁場不均勻而導(dǎo)致膜層不均勻并不常見。為什么?雖然磁場強度不容易控制,但工件也同時運行,目標(biāo)原子多次沉積結(jié)束涂層過程,雖然有些部分厚,有些部分薄,但在轉(zhuǎn)動過程中,在原來薄的部分轉(zhuǎn)到磁場強的地方,就會堆積厚,厚的到磁場弱的地方沉積薄的,往復(fù)多次,整個膜成膜后,均勻性相對較好。
氬氣的供氣均勻性也會影響膜的均勻性。其原理實際上與真空度相似。由于氬氣的進(jìn)入,真空室內(nèi)壓力會發(fā)生變化。均勻的壓力大小可控制磁控濺射真空鍍膜膜層厚度的均勻性。
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PVD真空電鍍現(xiàn)如今廣泛應(yīng)用于智能穿戴、手表、五金、汽車、航空航天、化工等行業(yè)。光明PVD真空鍍膜廠給您簡單概述一下鍍膜前后有什么區(qū)別?1.產(chǎn)品鍍膜后,在產(chǎn)品外觀上形成保護(hù)膜,能有效抵抗腐蝕,較耐磨,提高產(chǎn)品質(zhì)量,提升產(chǎn)品性價比。2.膜層可以改變產(chǎn)品的外觀,可以根據(jù)不同的產(chǎn)品客戶大批量電鍍不同的外觀顏色,以滿足消費者的需求,如硬件真空鍍膜18k金。3.電鍍層越厚,保色時間越長,如森豐真空厚金電鍍,
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公司名: 深圳森豐真空鍍膜有限公司
聯(lián)系人: 張娜
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地 址: 廣東深圳光明區(qū)鐘表基地森豐大廈
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