13BF-3M9P精密雙面平面拋光機,拋光機

時間：2017-06-15

作者：蘇州博宏源機械制造有限公司

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拋光機先容以及利用要領闡明拋光機拋光時，試樣磨面與拋光盤應jue對平行并勻稱地輕壓在拋光盤上，細致防備試樣飛出和因壓力太大而孕育發(fā)生新磨痕。同時還應使試樣自轉并沿轉盤半徑偏向來回移動，以制止拋光物局部磨損太快。在拋光歷程中要不停添加拋光液或別的拋光助劑，使拋光物連結肯定濕度。濕度太大會削弱拋光的磨痕作用，使試樣中硬相出現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬混合物及鑄鐵中石墨相孕育發(fā)生“曳尾”征象;濕度太小時，由
9BF-1M5P精密雙面平面拋光機,拋光機
9BF-1M5P精密雙面平面研磨機 9BF-1M5L精密雙面平面拋光機主要用途本機主要適用于硅片、光學玻璃、陶瓷片、石英晶體、半導體及其他硬脆材料的**雙面平面研磨/拋光。主要特點 1.壓力精密控制：PLC+PT+精密減壓閥實現(xiàn)壓力開環(huán)控制 2.上盤減震裝置：動靜態(tài)均適用的減振彈性連接方式 3.精密傳動系統(tǒng)：**小齒隙全齒輪傳動，傳動平穩(wěn) 4.下盤支撐：**結構軸承支撐 5.**速
22BF-4M5P精密雙面平面拋光機,拋光機
22BF-4M5L精密雙面平面研磨機 22BF-4M5P精密雙面平面拋光機主要用途主要用于藍寶石、藍玻璃、陶瓷片、晶體、半導體及其他硬脆材料的**雙面研磨/拋光，尤其對于**薄工件的加工具有明顯的優(yōu)勢主要特點 1.壓力控制精1確：PLC+PT+電氣比例閥+低摩擦氣缸實現(xiàn)**壓力控制 2.上盤調(diào)心靈活：新型上盤調(diào)心裝置，旋轉與調(diào)心動作分離，較1大**了上下盤動態(tài)條件下的吻合度 3.主機精度
6B拋光墊供應商詢問報價
平面研磨機在進行研磨拋光加工的過程中，合理選擇運動方式以及研磨軌跡對工件的精密度提升至關重要，研磨運動中較主要的是在于實現(xiàn)磨料的切削運動,因此運動狀況的好壞，將會直接的影響研磨加工時的精度以及生產(chǎn)的效率，所以，平面研磨機在研磨加工運動中，研磨運動應滿足以下幾點： 1、在加工工件時，整個研磨運動自始至終都應該力求平穩(wěn)。所以，工藝上對研磨、拋光盤自身的平面度要求很高，盤體的平面度可以采用特殊的熱處理