氣氛爐中不同氣氛對硅碳棒的影響
隨著需控制真空氣氛爐氣氛要求的增加,關(guān)于在不同氣氛中使用硅碳棒的注意事項也變得越來越重要。而且,在燒成中與處理物揮發(fā)出來的各種化學(xué)物質(zhì)之間的反應(yīng)也同樣需要注意。
所以,針對特殊氣氛和腐蝕性物質(zhì),我公司開發(fā)了各種防止硅碳棒快速老化的涂層。選用適當(dāng)?shù)耐繉涌梢匝娱L硅碳棒的壽命。無論在哪種氣氛中都讓表面負(fù)荷盡量小。
氣氛影響對策推薦涂層水蒸氣和濕氣比在干燥大氣中的使用壽命縮短1/5新真空氣氛爐試運行或者舊爐子長時間不工作再使用時,要先低溫充分干燥后再升溫。
U涂層氫氣硅碳棒溫度上升到1350℃以后電阻急速增加,機械強度也下降。而且根據(jù)氣體干濕的不同壽命也差別很大。
建議在真空氣氛爐溫度為1300℃以下的狀態(tài)下使用。表面負(fù)荷盡量?。?W/cm2)。
氮氣溫度**過1400℃時氮氣與碳化硅反應(yīng)生成氮化硅,使硅碳棒變脆,壽命縮短。受露點的影響與氫氣的狀況相同建議在真空氣氛爐溫度為1300℃以下的狀態(tài)下使用。表面負(fù)荷盡量?。?W/cm2)。
N涂層氨氣(H275%)、(N225%)與氫氣、氮氣的狀況相同。
建議在真空氣氛爐溫度為1300℃以下的狀態(tài)下使用。表面負(fù)荷盡量小。
N涂層分解反應(yīng)氣體(N2、CO、CO2、H2、CH2混合物)加熱過程中硅碳棒表面附著分解后的碳黑,造成棒體疏松。
經(jīng)常向真空氣氛爐輸送空氣,讓多余的碳燃燒。在真空氣氛爐構(gòu)造方面,保持硅碳棒間足夠的間隔以防止短路。
N涂層硫(S、SO2)硅碳棒溫度升到1300℃以后,硅碳棒表面被侵蝕、電阻急劇增加。
將硅碳棒溫度控制在1300℃以下。
N涂層其他由被處理物產(chǎn)生的各種物質(zhì),如鉛、銻、堿金屬的化合物與硅碳棒反應(yīng),使其壽命縮短。
預(yù)先將這些物質(zhì)從處理物中除掉,真空氣氛爐設(shè)排氣口以便減弱其影響。
H涂層S涂層。
詞條
詞條說明
中南大學(xué)成功訂購1400度坩堝爐1400度坩堝爐用途:1400度實驗室坩堝爐(井式爐)主要用于高校、科研院所、工礦企業(yè)煅燒真空或惰性氣體中的高純度化合物,退火或擴散半導(dǎo)體晶片,也可以用于烘燒或燒結(jié)陶瓷材料等,主要用于熔化熔點不太高的有色金屬,如銅、鋁及其合金等。1400℃坩堝爐參數(shù):電爐型號:AFD-1400℃實驗室坩堝爐爐膛結(jié)構(gòu):臥式開門方式:上開/側(cè)開(可定制)工作溫度:≤1300℃設(shè)計溫度:
高溫氣氛箱式電爐通氣體原理箱式電爐是高溫實驗爐,有些工件在爐內(nèi)高溫加熱時為了防止氧化需要墮性氣體保護,普通的箱式電爐就無法滿足這個工藝。這就需要有氣氛保護功能的箱式電爐,現(xiàn)在的氣氛保護箱式電爐都具有可編程功能,所以它的標(biāo)準(zhǔn)名稱是:可編程氣氛保護箱式電爐,保護氣氛標(biāo)準(zhǔn)型號“GWL”系列.電爐背面和正面采用特定制作工藝具有進氣和出氣裝置及控制氣體流量的流量計,可以直接通入墮性氣體如:氮氣,氫氣等其他氣
? 管式電爐以電阻絲 硅碳棒 硅鉬棒為加熱元件,采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和40段程序控溫系統(tǒng),移相觸發(fā)、可控硅控制,管式電爐爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料,雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng),采用微電腦進行控制,是冶金、陶瓷、玻璃、熱處理、磨料、磨具等行業(yè)測定材料在一定氣氛條件下的高溫?zé)Y(jié)熔化性能的**設(shè)備。? ? 管式電爐的控溫系統(tǒng)? ? 管式電爐廣泛應(yīng)用于化驗室樣品
1700℃箱式高溫爐主要用途:????供實驗室、工礦企業(yè)、科研單位、院校作元素分析測定和一般小型鋼件淬火、退火、回火等熱處理時加熱用,箱式高溫爐還可作金屬、陶瓷的燒結(jié)、溶解、分析等高溫加熱用。1700℃箱式高溫爐技術(shù)參數(shù):產(chǎn)品名稱1700℃箱式高溫爐產(chǎn)品型號AFD1700-8外形尺寸550x660x820mm(更多規(guī)格可按照客戶要求定制)爐膛有效尺寸200x
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