光氧催化設備原理是什么

    光氧催化設備原理是以Fe2+或Fe3+及H2O2為介質(zhì),通過光助 - 芬頓反應產(chǎn)生羥基自由基使污染物得到降解。紫外光線可以提高氧化反應的效果,是一種有效的催化劑。


    紫外/臭氧(UV/03)組合是通過加速臭氧分解速率,提高羥基自由基的生成速度,并促使**物形成大量活化分子,來提高難降解**污染物的處理效率。


    非均相光催化降解是利用光照射某些具有能帶結(jié)構的半導體光催化劑如TiO2、ZnO、CdS、WO3、SrTiO3、Fe2O3等,可誘發(fā)產(chǎn)生羥基自由基。在水溶液中,水分子在半導體光催化劑的作用下,產(chǎn)生氧化能力較強的羥基自由基,可以氧化分解各種**物。把這項技術應用于POPs的處理,可以**良好的效果,但是并不是所有的半導體材料都可以用作這項技術的催化劑,比如CdS是一種高活性的半導體光催化劑,但是它容易發(fā)生光陽極腐蝕,在實際處理技術中不太實用。

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