多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設(shè)備
多弧磁控濺射多功能離子鍍膜備可在金屬或非金屬的表面鍍制硬質(zhì)增壽臘、裝飾臘、合金膜或多層臘,可廣泛用于刀刃、模具、鐘表、首飾、燈具、建筑五金及裝飾用彩色鋼板、眼鏡架、電子產(chǎn)品、器械、儀器儀表等領(lǐng)域。
多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設(shè)備在真空條件下采用物理氣相沉積技術(shù),在基片上鍍制氮化鈦及其它薄膜。它將多弧離子鍍技術(shù)、柱形靶及磁控油射離子鍍技術(shù)**結(jié)合在一起,可單獨(dú)使用或同時(shí)使用,制取含有連續(xù)過渡層的各種膜層。
多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設(shè)備制造簡(jiǎn)單,使用方便,運(yùn)行成本低無污染,經(jīng)濟(jì)效益高。其雙真空室可交替工作,能提高工效一倍,大大節(jié)省投資。
真空鍍膜設(shè)備離子鍍的類型及特點(diǎn)是怎樣的?
真空鍍膜機(jī)離子鍍技術(shù)市場(chǎng)使用占比率非常高,鍍餐具,鍍家居,鍍飾品等都離不開離子鍍膜技術(shù),離子鍍膜技術(shù)不僅僅在國(guó)內(nèi)受追捧,國(guó)外也是一樣受喜愛。那么,真空鍍膜設(shè)備離子鍍的類型及特點(diǎn)是怎樣的?下面至成小編為大家詳細(xì)介紹一下:
離子鍍是結(jié)合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術(shù)而發(fā)展起來的沉積技術(shù)。在真空條件下,采用適當(dāng)?shù)姆绞绞瑰兡げ牧险舭l(fā),利用氣體放電使工作氣體和被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離,在氣體離子和被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下,蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過程包括鍍膜材料的蒸發(fā)、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據(jù)鍍膜材料不同的蒸發(fā)方式和氣體的離化方式,構(gòu)成了不同類型的離子鍍,下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質(zhì)廣、沉積速率快等優(yōu)點(diǎn)。
離子真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝及鍍膜產(chǎn)品表面防腐方法
不銹鋼基材通常會(huì)用拋光、拉絲、噴砂、化學(xué)蝕刻、激光雕刻、數(shù)控機(jī)床雕刻等作表面美工處理,有的還用激光焊接,水法電鍍鎳鉻層等。那么離子真空鍍膜機(jī)啟到了很關(guān)鍵的作用,今天至成小編為大家講解一下離子真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝及鍍膜產(chǎn)品表面防腐方法。
其實(shí)大家都知道,以上介紹幾種不銹鋼基材表面處理方法,各自有各自的優(yōu)勢(shì)和劣勢(shì)。如:拋光作業(yè)會(huì)在工件上殘留難以去除的硬化了的拋光蠟;尼龍輪拉絲在拉絲溝上會(huì)殘留透明的不易發(fā)現(xiàn)的高分子化合物;砂輪拉絲可能殘留磨粒和粘結(jié)劑,或因摩擦過熱產(chǎn)生氧化皮;噴砂會(huì)有陶瓷砂粒﹑玻璃砂粒、氧化鋁砂粒殘留鑲嵌在表面上;化學(xué)蝕刻會(huì)有腐蝕產(chǎn)物殘留在腐蝕坑內(nèi),或在其它非腐蝕表面上殘留用于防腐蝕的保護(hù)物質(zhì);激光雕刻處理會(huì)產(chǎn)生高溫氧化皮和燒蝕基體碎片殘留;數(shù)控機(jī)床雕刻會(huì)有高溫氧化皮和切削油殘留,還會(huì)有基材碎片被壓入基體上;激光焊接也會(huì)導(dǎo)致高溫氧化等;水法電鍍鉻層會(huì)生成難以去除的復(fù)雜氧化物,這些處理引起的污染不徹底清除會(huì)導(dǎo)致離子鍍過程打火、鍍層假附著、掉膜、顏色不均等不良。
在離子真空鍍膜機(jī)鍍產(chǎn)品中美工處理方式往往不是單一的,而是多種作業(yè)組合,這較增加了鍍前清洗的困難。采用傳統(tǒng)的超聲去油除蠟的方法是不能勝任的,必須調(diào)整清洗工藝,對(duì)不同的污染,可選擇機(jī)械清除、氣相清洗﹑真空加熱后再清洗、陰極電解﹑陽極電解、或采用針對(duì)性的高效清洗劑等等。這些綜合措施可**較好的效果,但對(duì)有些污染仍未找到理想的解決辦法。新近等離子體拋光方法應(yīng)用到鍍前清洗是值得關(guān)注的技術(shù),該技術(shù)在某些鍍層的褪鍍**良好效果。
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詞條說明
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淺析真空鍍膜機(jī)檢漏方法 真空鍍膜機(jī)廠家介紹查看漏氣狀況是確保真空鍍膜機(jī)真空度的一項(xiàng)查看辦法,簡(jiǎn)稱檢漏,真空度的凹凸是直接影響到鍍膜作用的,所以檢漏是**的。 通常真空室內(nèi)漏氣都是從室壁上的一些小孔或部件之前的銜接位細(xì)縫中發(fā)生,當(dāng)抽氣系統(tǒng)抽氣后使真空室內(nèi)壓強(qiáng)降低,外部與內(nèi)部的壓強(qiáng)差使氣體從壓強(qiáng)高的外部流向壓強(qiáng)低的真空室內(nèi),形成真空度降低。 真空鍍膜機(jī)廠家介紹在檢漏的過程中,需求注意一些問題,才
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什么是鍍膜機(jī)鍍膜的均勻性 均勻性這個(gè)概念本身也會(huì)隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。在光學(xué)薄膜的尺度上看,真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)。原子層尺度上的均勻度,也就是說要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整,是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術(shù)含量與技術(shù)瓶頸所在對(duì)于多弧離子鍍膜機(jī)的光學(xué)特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。鍍膜中化合物的原子組分會(huì)由于尺度過小而很容易的產(chǎn)
離子鍍膜設(shè)備廠家量大從優(yōu)“本信息長(zhǎng)期有效”
多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設(shè)備 多弧磁控濺射多功能離子鍍膜備可在金屬或非金屬的表面鍍制硬質(zhì)增壽臘、裝飾臘、合金膜或多層臘,可廣泛用于刀刃、模具、鐘表、首飾、燈具、建筑五金及裝飾用彩色鋼板、眼鏡架、電子產(chǎn)品、器械、儀器儀表等領(lǐng)域。 多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設(shè)備在真空條件下采用物理氣相沉積技術(shù),在基片上鍍制氮化鈦及其它薄膜。它將多弧離子鍍技術(shù)、柱形靶及磁控油射離子鍍技術(shù)**結(jié)合在一起,可單獨(dú)使用或
光學(xué)薄膜的定義 由薄的分層介質(zhì)構(gòu)成的,通過界面?zhèn)鞑ス馐活惞鈱W(xué)介質(zhì)材料,光學(xué)薄膜的應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代,光學(xué)薄膜已經(jīng)廣泛用于光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域,制造各種光學(xué)儀器。制備條要求件高而精。 光學(xué)薄膜的定義是:涉及光在傳播路徑過程中,附著在光學(xué)器件表面的厚度薄而均勻的介質(zhì)膜層,通過分層介質(zhì)膜層時(shí)的反射、透(折)射和偏振等特性,以達(dá)到我們想要的在某一或是多個(gè)波段范圍內(nèi)的光的全部透過或光的全部反射或偏
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