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    光學(xué)薄膜的定義


    由薄的分層介質(zhì)構(gòu)成的,通過(guò)界面?zhèn)鞑ス馐活?lèi)光學(xué)介質(zhì)材料,光學(xué)薄膜的應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代,光學(xué)薄膜已經(jīng)廣泛用于光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域,制造各種光學(xué)儀器。制備條要求件高而精。

    光學(xué)薄膜的定義是:涉及光在傳播路徑過(guò)程中,附著在光學(xué)器件表面的厚度薄而均勻的介質(zhì)膜層,通過(guò)分層介質(zhì)膜層時(shí)的反射、透(折)射和偏振等特性,以達(dá)到我們想要的在某一或是多個(gè)波段范圍內(nèi)的光的全部透過(guò)或光的全部反射或偏振分離等各特殊形態(tài)的光。

    光學(xué)薄膜在我們的生活中無(wú)處不在,從精密及光學(xué)設(shè)備、顯示器設(shè)備到日常生活中的光學(xué)薄膜應(yīng)用;比方說(shuō),平時(shí)戴的眼鏡、數(shù)碼相機(jī)、各式家電用品,或者是防偽技術(shù),皆能被稱(chēng)之為光學(xué)薄膜技術(shù)應(yīng)用之延伸。倘若沒(méi)有光學(xué)薄膜技術(shù)作為發(fā)展基礎(chǔ),近代光電、通訊或是鐳射技術(shù)將無(wú)法有所進(jìn)展,這也顯示出光學(xué)薄膜技術(shù)研究發(fā)展的重要性。


    光學(xué)薄膜系指在光學(xué)元件或獨(dú)立基板上,制鍍上或涂布一層或多層介電質(zhì)膜或金屬膜或這兩類(lèi)膜的組合,以改變光波之傳遞特性,包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改變。故經(jīng)由適當(dāng)設(shè)計(jì)可以調(diào)變不同波段元件表面之穿透率及反射率,亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性。

    一般來(lái)說(shuō),光學(xué)薄膜的生產(chǎn)方式主要分為干法和濕法的生產(chǎn)工藝。所謂的干式就是沒(méi)有液體出現(xiàn)在整個(gè)加工過(guò)程中,例如真空蒸鍍是在一真空環(huán)境中,以電能加熱固體原物料,經(jīng)升華成氣體后附著在一個(gè)固體基材的表面上,完成涂布加工。日常生活中所看到裝飾用的金色、銀色或具金屬質(zhì)感的包裝膜,就是以干式涂布方式制造的產(chǎn)品。但是在實(shí)際量產(chǎn)的考慮下,干式涂布運(yùn)用的范圍小于濕式涂布。濕式涂布一般的做法是把具有各種功能的成分混合成液態(tài)涂料,以不同的加工方式涂布在基材上,然后使液態(tài)涂料干燥固化做成產(chǎn)品。



    真空鍍膜技術(shù)優(yōu)點(diǎn)


    清洗過(guò)程簡(jiǎn)化:現(xiàn)有真空鍍膜機(jī)PVD涂層鍍膜工藝,多數(shù)均要求事先對(duì)工件進(jìn)行嚴(yán)格清洗,既復(fù)雜又費(fèi)事。然而,離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用,并且這一作用還一直延續(xù)于整個(gè)鍍膜過(guò)程。清洗效果良好,能使鍍層直接貼近基體,有效地增強(qiáng)了附著力,簡(jiǎn)化了大量的鍍前清洗工作。

    可鍍材料廣泛:離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面,使大量的電能在工件表面轉(zhuǎn)換成熱能,從而促進(jìn)了表層組織的擴(kuò)散作用和化學(xué)反應(yīng)。然而,整個(gè)工件,特別是工件心部并未受到高溫的影響。因此這種鍍膜工藝的應(yīng)用范圍較廣,受到的局限性則較小。通常,各種金屬、合金以及某些合成材料、絕緣材料、熱敏材料和高熔點(diǎn)材料等均可鍍復(fù)。即可在金屬工件上鍍非金屬或金屬,也可在非金屬上鍍金屬或非金屬,甚至可鍍塑料、橡膠、石英、陶瓷等。


    真空鍍膜機(jī)真空的清洗方法,你知道嗎?


    真空鍍膜機(jī)真空清洗一般定義為在真空工藝進(jìn)行前,先從工件或系統(tǒng)材料表面清除所不期望的物質(zhì)的過(guò)程。真空零部件的表面清洗處理是很必要的,因?yàn)橛晌廴疚锼斐傻臍怏w、蒸氣源會(huì)使真空系統(tǒng)不能獲得所要求的真空度。此外,由于污染物的存在,還會(huì)影響真空部件連接處的強(qiáng)度和密封性能。

    一.真空加熱清洗

    將工件放置于常壓或真空中加熱.促使其表面上的揮發(fā)雜質(zhì)蒸發(fā)來(lái)達(dá)到清洗的目的,這種方法的清洗效果與工件的環(huán)境壓力、在真空中保留時(shí)間的長(zhǎng)短、加熱溫度、污染物的類(lèi)型及工件材料有關(guān)。其原理是加熱工件.促使其表面吸附的水分子和各種碳?xì)浠衔锓肿拥慕馕饔迷鰪?qiáng)。解吸增強(qiáng)的程度與溫度有關(guān)。在**高真空下,為了得到原子級(jí)清潔表面,加熱溫度必**450度才行.加熱清洗方法特別有效。但有時(shí),這種處理方法也會(huì)產(chǎn)生副作用。由于加熱的結(jié)果,可能發(fā)生某些碳?xì)浠衔锞酆铣奢^大的團(tuán)粒,并同時(shí)分解成碳渣


    二.紫外線輻照清洗

    利用紫外輻照來(lái)分解表面上的碳?xì)浠衔?。例如,在空氣中照?5h就可產(chǎn)生清潔的玻璃表面。如果把適當(dāng)預(yù)清洗的表面放在一個(gè)產(chǎn)生臭氧的紫外線源中.要不了幾分鐘就可以形成清潔表面(工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機(jī)理是:在紫外線照射下,污物分子受激并離解,而臭氧的生成和存在產(chǎn)生高活性的原子態(tài)氧。受激的污物分子和由污物離解產(chǎn)生的自由基與原子態(tài)氧作用.形成較簡(jiǎn)單易揮發(fā)分子.如H203、CO2和N2.其反應(yīng)速率隨溫度的增加而增加.




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  • 詞條

    詞條說(shuō)明

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