噴涂鉻管靶
成型工藝:熱等靜壓、噴涂
用途:工具鍍膜、裝飾鍍膜、建筑玻璃鍍膜
常規(guī)尺寸:ID125xOD145~155xL (mm)
詞條
詞條說明
濺射靶材的主要應(yīng)用濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè),如集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示屏、激光存儲(chǔ)器、電子控制器件等;亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。分類 根據(jù)形狀可分為長(zhǎng)靶,方靶,圓靶,異型靶 根據(jù)成份可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材 根據(jù)應(yīng)用不同又分為半導(dǎo)體關(guān)聯(lián)陶瓷靶材、記錄介質(zhì)陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、**導(dǎo)陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材等 根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)
噴涂鉻管靶成型工藝:熱等靜壓、噴涂用途:工具鍍膜、裝飾鍍膜、建筑玻璃鍍膜常規(guī)尺寸:ID125xOD145~155xL?(mm)
現(xiàn)階段靶材的制取關(guān)鍵有鑄造法和粉未冶金法。鑄造法:將一定成份配制的合金原材料熔煉,再將合金飽和溶液澆筑于模貝中,產(chǎn)生澆鑄,較終經(jīng)機(jī)械加工制造做成靶材,鑄造法在真空泵中熔煉、鑄造。常見的熔煉方式 有真空泵磁感應(yīng)熔煉、真空泵電孤熔煉和真空電子負(fù)電子熔煉等,其特點(diǎn)是靶材殘?jiān)浚ㄓ绕涫瞧w殘?jiān)浚┑停鄬?duì)密度高,可進(jìn)口替代;缺陷是對(duì)溶點(diǎn)和相對(duì)密度相距過大的二種或兩種以上金屬材料,一般熔煉法難以獲得成份
我們都掌握靶材便是快速荷能顆粒負(fù)電子的總體目標(biāo)原材料。磁控濺射靶材關(guān)鍵運(yùn)用于電子器件及信息技術(shù)產(chǎn)業(yè),如電子器件、信息內(nèi)容儲(chǔ)存、液晶顯示器、激光器儲(chǔ)存器、電子器件操縱元器件等;也可以運(yùn)用于玻璃鍍膜行業(yè);還能夠運(yùn)用于金屬?gòu)?fù)合材料、高溫耐腐蝕、**裝飾用品等領(lǐng)域。 靶材類型比較多,有金屬類、鋁合金類、金屬氧化物類這些,用的領(lǐng)域也各有不同,運(yùn)用很普遍。那麼普遍的金屬靶材有什么?磁控濺射靶材是不是希缺資源?
公司名: 醴陵市利吉升新材料有限公司
聯(lián)系人: 謝小姐
電 話: 0769-88039551
手 機(jī): 18681059431
微 信: 18681059431
地 址: 湖南株洲醴陵市仙岳山街道五里墩村
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網(wǎng) 址: dgsdwxc.cn.b2b168.com
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