Femtum中紅外納秒光纖激光器對薄膜加工的應用表現(xiàn)

時間：2022-08-31

透明導電薄膜(TCF)廣泛用于現(xiàn)代電子設備中。這些薄的導電薄膜在沉積在玻璃、硅或聚合物基板上時可以帶電。TCF可用作OLED和太陽能電池的電極，或者用于您較喜歡的手機觸摸屏上的導電層。

圖1：透明導電膜(TCF)是所有觸摸屏技術的基礎

在TCF中，氧化銦錫(ITO)因其出色的透明度和電氣特性而成為行業(yè)標準。較近的材料，如氧化石墨烯(GO)或PEDOT，由于它們比ITO較*彎曲，因此在柔性電子產品方面顯示出巨大的前景。

透明導電膜的圖案化

這些導電層的圖案化是一個非常重要的制造過程，他可以去除掉某些部分，凸顯功能化和表面的電氣特性，并根據應用項目在該層上創(chuàng)建電路。與光刻相比，激光圖案化是一種未來很有前途的解決方案，因為它可以靈活地定制具有非常高的通光量的圖案化，同時節(jié)省預處理步驟所產生的消耗。

對于TCF的激光圖案化而言，較大的挑戰(zhàn)之一是：要在不影響底層基板（玻璃、聚合物、硅等）的情況下選擇性地去除薄膜。根據沉積工藝或應用，還可能優(yōu)選去除基板上方的TCF層（正面處理）或穿過基板（背面處理），如圖2所示。

圖2：TCF激光圖案化的兩種方法：正面和背面加工

選擇中紅外激光器對薄膜進行激光圖案化

為了克服對薄膜進行激光圖案化的挑戰(zhàn)，Femtum開發(fā)了一種新的2.8μm中紅外脈沖光纖激光器，用于選擇性的去除不同基材上的透明導電薄膜。

中紅外納秒激光器是薄膜圖案化的理想選擇，因為大多數(shù)導電薄膜基于氧化物材料，在3μm左右的波長處具有強烈吸收。與紫外或近紅外激光圖案化相比，在不影響襯底的情況下，較*的能選擇性地去除不需要的薄膜層，襯底在這些中紅外波長下具有較高的燒蝕閾值。

圖3顯示了使用FemtumNano2800nm激光器使用正面和背面處理方法在PET上形成ITO圖案的示例。

圖3：使用FemtumNano2800納秒脈沖激光器激光器對PET進行氧化銦錫(ITO膜)加工。前處理和后處理不會對PET基材造成任何損壞。

由于FemtumNano2800具有出色的光束質量，還可以實現(xiàn)具有小特征尺寸（約10μm）的精確圖案化，如圖4所示。

圖4：ITO在PET上的精確圖案化，尺寸為12um

使用這種多功能的工業(yè)光纖激光器，在各種基材上加工納米銀線透明導電薄膜（TCF），如柔性聚合物（PET、PMMA、聚酰亞胺等）或其他中紅外透明基材（硅、鍺），可以開辟較加廣泛的應用。

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