晶振片故障現(xiàn)象、原因及解決辦法

時間：2024-01-30作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：47

探頭故障現(xiàn)象、原因及排除方法

1、沉積期間厚度讀數(shù)大跳變

a. 不良晶片產(chǎn)生   解決方案：換晶片

b. 晶片接近其使用壽命  解決方案：換晶片

c. 晶片支承座表面有雜物   解決方案：用酒精或細砂皮清洗支承座

d. 來自濺射源的頻率干涉   解決方案： 檢查接地，儀器遠離濺射源

2、沉積期間晶體停振，但晶片壽命未到

a. 晶片被來自鍍膜源熔化材料小熔滴撞擊   解決方案：鍍膜起始階段用檔板遮蔽后移開

b. 不良晶片   解決方案： 換晶片

c. 晶片支承座內(nèi)腔表面有雜質(zhì)   解決方案：清洗

3、晶體在真空中振蕩，單暴露空氣后停振

a.晶體接近使用壽命，暴露空氣導(dǎo)致薄膜氧化而引起薄膜壓力增加   解決方案： 換晶片

b. 晶片積累了過多水分   解決方案：暴露空氣之前關(guān)掉探頭冷卻水


鄭州科探儀器設(shè)備有限公司專注于真空探針臺,等離子清洗機,小型蒸鍍儀等

• 詞條

  詞條說明

• 電感耦合和電容耦合的區(qū)別和應(yīng)用場景

  1. 電感耦合（Inductively Coupled Plasma, ICP）：電感耦合等離子體是通過高頻磁場與等離子體的相互作用來傳遞能量的。在電感耦合的過程中，高頻電流通過螺線管產(chǎn)生高頻磁場，高頻磁場切割等離子體產(chǎn)生渦旋電流，從而將能量傳遞給等離子體。這種方式的優(yōu)點是穩(wěn)定性好，能量傳遞，適用于高密度等離子體的產(chǎn)生，廣泛應(yīng)用于材料刻蝕、沉積和離子輔助沉積等領(lǐng)域。2. 電容耦合（Capaciti

• 真空冷阱表面為什么會有水

  1、空氣的液化溫度取決于空氣的組成成分。一般來說，空氣主要由、氧氣和少量其他氣體組成。在標(biāo)準(zhǔn)大氣壓下（約為1個大氣壓，相當(dāng)于101.325千帕），液態(tài)氮的沸點約為-196攝氏度（-321華氏度），液態(tài)氧的沸點約為-183攝氏度（-297華氏度）。因此，空氣的液化溫度應(yīng)該在這兩個溫度之間。請注意，這些數(shù)值是在標(biāo)準(zhǔn)條件下給出的，實際情況可能會受到氣壓和空氣成分的變化而有所不同。2、當(dāng)空氣的溫度降低到的

• 晶振片故障現(xiàn)象、原因及解決辦法

  探頭故障現(xiàn)象、原因及排除方法1、沉積期間厚度讀數(shù)大跳變a.?不良晶片產(chǎn)生???解決方案：換晶片b.?晶片接近其使用壽命??解決方案：換晶片c.?晶片支承座表面有雜物???解決方案：用酒精或細砂皮清洗支承座d.?來自濺射源的頻率干涉???解決方案：&n

• 中頻和射頻等離子清洗機之間的主要區(qū)別是

  1. 工作頻率：40KHz等離子清洗機的工作頻率為40千赫（40,000赫茲），而13.56MHz等離子清洗機的工作頻率為13.56兆赫（13,560,000赫茲）。工作頻率不同會導(dǎo)致設(shè)備清洗效果和適用范圍上的差異。2. 清洗效果：40KHz的低頻等離子清洗對于大多數(shù)材料都可以達到較好的清洗效果，但對于一些微米或亞微米級別的顆?；蛭廴疚锶コЧ赡懿患?。而13.56MHz高頻等離子清洗則在去除顆粒