1. 電感耦合(Inductively Coupled Plasma, ICP):
電感耦合等離子體是通過高頻磁場(chǎng)與等離子體的相互作用來傳遞能量的。在電感耦合的過程中,高頻電流通過螺線管產(chǎn)生高頻磁場(chǎng),高頻磁場(chǎng)切割等離子體產(chǎn)生渦旋電流,從而將能量傳遞給等離子體。這種方式的優(yōu)點(diǎn)是穩(wěn)定性好,能量傳遞,適用于高密度等離子體的產(chǎn)生,廣泛應(yīng)用于材料刻蝕、沉積和離子輔助沉積等領(lǐng)域。
2. 電容耦合(Capacitively Coupled Plasma, CCP):
電容耦合等離子體是通過交變電場(chǎng)與等離子體的相互作用來傳遞能量的。在電容耦合的過程中,兩個(gè)電之間施加高頻交變電壓,由于等離子體與電之間的電容效應(yīng),導(dǎo)致等離子體內(nèi)部產(chǎn)生高頻電場(chǎng),從而將能量傳遞給等離子體。這種方式的優(yōu)點(diǎn)是結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,能量傳遞相對(duì)低效,適用于低密度的等離子體產(chǎn)生,常用于等離子清洗、薄膜沉積等應(yīng)用場(chǎng)景。
總結(jié):
電感耦合和電容耦合的主要區(qū)別在于能量傳遞的方式,電感耦合通過高頻磁場(chǎng)傳遞能量,適用于高密度等離子體;而電容耦合通過交變電場(chǎng)傳遞能量,適用于低密度等離子體。根據(jù)實(shí)際應(yīng)用場(chǎng)景和等離子體要求,可以選擇不同的能量傳遞方式。
詞條
詞條說明
直流負(fù)壓濺射和直流濺射??在直流濺射中,帶正電的離子被吸引到接地的、帶負(fù)電的濺射靶上,從靶材上濺射出原子,然后這些原子在樣品(也稱為襯底)上沉積形成薄膜。通常情況下,濺射靶被接到正,而樣品端(襯底)被接到負(fù)或接地。??? ?然而,有些情況下(如反濺射或偏壓濺射),樣品端會(huì)被接到正以吸引多余的離子,從而實(shí)現(xiàn)清潔襯底表面或形成離子轟擊確保薄膜
1、空氣的液化溫度取決于空氣的組成成分。一般來說,空氣主要由、氧氣和少量其他氣體組成。在標(biāo)準(zhǔn)大氣壓下(約為1個(gè)大氣壓,相當(dāng)于101.325千帕),液態(tài)氮的沸點(diǎn)約為-196攝氏度(-321華氏度),液態(tài)氧的沸點(diǎn)約為-183攝氏度(-297華氏度)。因此,空氣的液化溫度應(yīng)該在這兩個(gè)溫度之間。請(qǐng)注意,這些數(shù)值是在標(biāo)準(zhǔn)條件下給出的,實(shí)際情況可能會(huì)受到氣壓和空氣成分的變化而有所不同。2、當(dāng)空氣的溫度降低到的
電感耦合和電容耦合的區(qū)別和應(yīng)用場(chǎng)景
1. 電感耦合(Inductively Coupled Plasma, ICP):電感耦合等離子體是通過高頻磁場(chǎng)與等離子體的相互作用來傳遞能量的。在電感耦合的過程中,高頻電流通過螺線管產(chǎn)生高頻磁場(chǎng),高頻磁場(chǎng)切割等離子體產(chǎn)生渦旋電流,從而將能量傳遞給等離子體。這種方式的優(yōu)點(diǎn)是穩(wěn)定性好,能量傳遞,適用于高密度等離子體的產(chǎn)生,廣泛應(yīng)用于材料刻蝕、沉積和離子輔助沉積等領(lǐng)域。2. 電容耦合(Capaciti
1. 工作頻率:40KHz等離子清洗機(jī)的工作頻率為40千赫(40,000赫茲),而13.56MHz等離子清洗機(jī)的工作頻率為13.56兆赫(13,560,000赫茲)。工作頻率不同會(huì)導(dǎo)致設(shè)備清洗效果和適用范圍上的差異。2. 清洗效果:40KHz的低頻等離子清洗對(duì)于大多數(shù)材料都可以達(dá)到較好的清洗效果,但對(duì)于一些微米或亞微米級(jí)別的顆?;蛭廴疚锶コЧ赡懿患?。而13.56MHz高頻等離子清洗則在去除顆粒
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