ASEMI集成高壓整流橋技術(shù)的發(fā)展歷程，點(diǎn)我加速！

時(shí)間：2020-01-05作者：深圳市強(qiáng)元芯電子有限公司瀏覽：1545

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集成整流橋高壓整流技術(shù)的發(fā)展歷程，延續(xù)至今，是經(jīng)歷了怎樣的風(fēng)花雪月呢？ 高壓整流橋技術(shù)的發(fā)展歷程，高壓整流橋的發(fā)展經(jīng)歷了三代，ASEMI為您加速！


集成整流橋的發(fā)展經(jīng)歷了三個(gè)階段，下面我們來(lái)分別為大家講一下：


**階段，整流橋的技術(shù)革新時(shí)代，2000年之后，整流橋的高壓需求變得越來(lái)越緊迫，同時(shí)

隨著工業(yè)技術(shù)的不斷發(fā)展，高壓技術(shù)的研究也**了突破性的進(jìn)展，采用了新的工藝制造水

平，不僅使得成本大大降低，提高了高壓整流橋的普及率，而且芯片的性能也趨于穩(wěn)定，自

此之后，整流橋的耐壓普遍由400V以下，變?yōu)?000V以上甚至是1600V，可以直接接在家用電

源或者是工業(yè)電源上，而不需要再提供**的變壓器



*二階段，技術(shù)革新之后，人們開(kāi)始寄希望于開(kāi)發(fā)出較高耐壓的二極管橋堆，同時(shí)隨著技術(shù)

的不斷改進(jìn)，二極管芯片離散性一致的提高，人們開(kāi)始使用多個(gè)二個(gè)管串聯(lián)的方式開(kāi)來(lái)提高

整流橋堆產(chǎn)品的耐壓，當(dāng)然，這些都是建立在整流橋堆內(nèi)部芯片的可以保證一致的前提下，

整流橋的耐壓也提高到了近1W的耐壓。


*三階段，也就是2010年之后，研究人員發(fā)現(xiàn)，技術(shù)上的改進(jìn)已無(wú)法使得普通的二極管獲得

較高的耐壓，而新材料的出現(xiàn)為高壓整流橋帶來(lái)了新的轉(zhuǎn)機(jī)，這是目前所有人都在克服的一

項(xiàng)技術(shù)，雖然到目前為止，接近10000V的高壓二極管已經(jīng)出現(xiàn)，但其高昂的成本，使得它暫

時(shí)無(wú)法廣泛應(yīng)用于現(xiàn)有的工業(yè)當(dāng)中，相信在不久的將來(lái)，這一難題會(huì)得到根本的解決


深圳市強(qiáng)元芯電子有限公司專注于整流橋,肖特基二極管,快恢復(fù)二極管等

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