KRI 射頻離子源輔助沉積鍍制385nm紫外帶通濾光片

時間：2024-01-10

帶通濾光片也叫干涉濾光片, 主要起到過濾不想要的雜光, 只讓想要的光通過的作用. 385nm 紫外帶通濾光片是帶通濾光片中一款 UV 紫外波段的濾光片, 廣泛應(yīng)用于熒光檢測, 多波段濾光片. 它具有高透過率, 其深截止可保探測器接收不到其它波長的光, 因此可保證圖像的高亮度和大的信噪比. 385nm 紫外帶通濾光片采用多層硬膜經(jīng)離子輔助沉積納米材料高真空蒸發(fā)而成, 膜層致密性好, 成像清晰度高, 厚度薄. 為了得到效果, 經(jīng)過上海伯東某客戶采用光學(xué)鍍膜機加裝美國進口 KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380 鍍制 385nm 紫外帶通濾光片. 驗證過程及結(jié)果如下：

應(yīng)用方向：美國 KRi 射頻離子源輔助沉積鍍制 385nm 紫外帶通濾光片

離子源類型：美國 KRi 射頻離子源 RFICP 380

鍍膜設(shè)備：1米7 的大型蒸鍍設(shè)備

應(yīng)用領(lǐng)域：UV 臭氧燈、UV 洗凈燈、UV 光分解燈、UV 燈、UV 固化燈、UV-LED 、UV 紫外光合成燈、熒光分析儀、熒光顯微鏡、生物芯片、酶標儀、工業(yè)相機、分光光度計、醫(yī)用理化分析設(shè)備、刑偵檢測、光學(xué)儀器、科學(xué)攝影、生命科學(xué)檢測儀器等

光學(xué)鍍膜機加裝美國進口 KRi 大尺寸射頻離子源 RFICP 380 鍍制 385nm 紫外帶通濾光片, 可以獲得很小的 Ta2O5 與 SiO2 材料在紫外的吸收率, 沉積過程穩(wěn)定, 加以合理的膜系設(shè)計, 能達到行業(yè)級水準.

上海伯東美國 KRi 射頻離子源 RFICP 系列, 燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間長! 射頻源 RF 系列提供完整的系列, 包含離子源本體, 電子供應(yīng)器, 中和器, 自動控制器等. 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等.

上海伯東同時提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域.

上海伯東是美國Gel-pak 芯片包裝盒, 日本 NS 離子蝕刻機, 德國 Pfeiffer 真空設(shè)備, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 比利時進口 Europlasma 等離子表面處理機和美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備等進口的代理商 .我們真誠期待與您的合作!

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上海伯東: 羅小姐

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