分子泵組應(yīng)用于低溫真空探針臺


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  • HVA 真空插板閥(真空閥門)用于激光真空系統(tǒng)

    因產(chǎn)品配置不同,價格貨期需要電議,圖片僅供參考,一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。美國HVA帶孔真空插板閥(真空閥門)真空閘閥廣泛用于激光真空系統(tǒng)伯東公司代理美國HVA帶孔真空插板閥(Gate Valve)真空閥門廣泛用于激光真空系統(tǒng)HVA Gate Valve在激光真空系統(tǒng)上的應(yīng)用伯東企業(yè)(上海)有限公司, 為美國HVA 真空閥門在中國境內(nèi)的代理商, 并負(fù)責(zé)HVA Valve 真空閥門在中國地區(qū)的銷售

  • HVA 真空閥門應(yīng)用于E-Beam 鍍膜機(jī)

    某品牌?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機(jī)系統(tǒng)采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統(tǒng)停機(jī)時不破壞系統(tǒng)真空,?只要對泵內(nèi)部進(jìn)行破真空即可.E-Beam?鍍膜機(jī)設(shè)備組成:?系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室,?電子,?進(jìn)樣室 

  • KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應(yīng)用

    上海伯東美國?KRi 考夫曼 RF 射頻離子源, 燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標(biāo), 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積 和 ?IBD 離子束沉積是其典型的應(yīng)用.KRi?離子源在 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用通常安裝兩個離子源主要濺射沉積源和二次預(yù)清潔 / 離子輔助源一次氣源為惰性氣體, 二次氣源為惰性或反應(yīng)性

  • KRi 考夫曼離子源表面預(yù)清潔 Pre-clean 應(yīng)用

    上海伯東代理美國?KRi 考夫曼離子源適用于安裝在 MBE 分子束外延, 濺射和蒸發(fā)系統(tǒng), PLD 脈沖激光系統(tǒng)等, 在沉積前用離子轟擊表面, 進(jìn)行預(yù)清潔 Pre-clean 的工藝, 對基材表面物清洗, 金屬氧化物的去除等, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應(yīng)力, 工藝效率等!KRi 離子源預(yù)清潔可以實(shí)現(xiàn)去除物理吸附污染: 去除表面污染, 如水, 吸附氣體, 碳?xì)浠衔餁埩羧コ瘜W(xué)吸附污

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