污水處理中反滲透常見問題匯總3

15. 怎樣才能使膜系統(tǒng)的能耗降低?

采用低能耗膜元件即可，但應注意到它們的脫鹽率比標準膜元件略低。

15. 反滲透純水系統(tǒng)能否頻繁的啟停?

膜系統(tǒng)是按連續(xù)運行作為設計基準的，但在實際操作時，總會有一定頻度的開機和停機。當膜系統(tǒng)停機時，必須用其產(chǎn)水或經(jīng)過預處理合格的水進行低壓沖洗，從膜元件中置換掉高濃度但含阻垢劑的濃水。還應采取措施預防系統(tǒng)內(nèi)水漏掉而引入空氣，因為元件失水干掉的話，可能會產(chǎn)生不可逆的產(chǎn)水通量損失。如果停機小于24小時，則*采取預防微生物滋生的措施。但停機時間**過上述規(guī)定，應采用保護液作系統(tǒng)保存或定時沖洗膜系統(tǒng)。

16. 膜元件上安裝鹽水密封圈其方向怎樣確定?

要求膜元件上的鹽水密封圈裝在元件進水端，同時開口面向進水方向，當給壓力容器進水時，其開口(唇邊)將進一步張開，完全封住進水從膜元件與壓力容器內(nèi)壁間的旁流。

17. 怎樣從水中脫除硅?

水中硅以兩種形態(tài)存在，活性硅(單體硅)和膠體硅(多元硅)：膠體硅沒有離子的特征，但尺度相對較大，膠體硅能被精細的物理過濾過程所截留，如反滲透，也可以通過凝聚技術降低水中的含量，如混凝澄清池，但是那些需要依靠離子電荷特征的分離技術，如離子交換樹脂和連續(xù)電去離子過程(CDI)，對脫除膠體硅效果十分有限。

活性硅的尺寸比膠體硅小得多，這樣大多數(shù)的物理過濾技術如混凝澄清、過濾和氣浮等均無法脫除活性硅，能夠有效脫除活性硅的過程是反滲透、離子交換和連續(xù)電去離子過程。

18. pH對脫除率、產(chǎn)水量和膜壽命有何影響?

反滲透膜產(chǎn)品對應pH范圍，一般為2～11，pH對膜性能本身的影響很小，這是與其它膜產(chǎn)品不同的顯著特點之一，但是水中許多離子本身的特性受pH的影響巨大，例如當檸檬酸等類的弱酸在低pH條件下，主要呈非離子態(tài)，而在高pH值下出現(xiàn)解離而呈離子態(tài)。由于同一離子，荷電程度高，膜的脫除率高，荷電程度低或不荷電，則膜的脫除率低，因此pH對某些雜質(zhì)的脫除率影響十分巨大。

19. 進水TDS和電導率之間關系怎樣?

當獲得進水電導率數(shù)值時，必須將其轉(zhuǎn)化成TDS數(shù)值，以便能在軟件設計時輸入。對于多數(shù)水源，電導率/TDS的比率為1.2～1.7之間，為了進行ROSA設計，海水選用1.4比率而苦咸水選用1.3比率進行換算，通常能夠得到較好的近似換算率。

20. 怎樣知道膜是否已受到污染?

以下是污染的常見癥狀：

在標準壓力下，產(chǎn)水量下降

為了達到標準產(chǎn)水量，必須提高運行壓力v

進水與濃水間的壓降增加v

膜元件的重量增加v

膜脫除率明顯變化(增加或降低)

當元件從壓力容器內(nèi)取出時，將水倒在豎起的膜元件進水側(cè)，水不能流過膜元件，僅從端面溢出(表明進水流道完全堵塞)。