芯片分析方法
1.OM 光學(xué)顯微鏡觀察,外型分析
2.C-SAM(**音波掃描顯微鏡)
(1)原材料里面的晶格常數(shù)構(gòu)造,殘?jiān)w粒物,參雜物,沉淀,
(2) 內(nèi)部裂痕。 (3)分層次缺陷。(4)裂縫,汽泡,間隙等。
3. X-Ray 檢驗(yàn)IC封裝中的各種各樣缺陷如層脫離、崩裂、裂縫及其打線的一致性,PCB工藝中也許出現(xiàn)的缺陷如兩端對(duì)齊欠佳或中繼,**、短路故障或異常聯(lián)接的缺陷,封裝形式中的錫球一致性。(這幾類(lèi)是芯片產(chǎn)生無(wú)效后較先應(yīng)用的非破壞性分析手段)
4.SEM電鏡/EDX動(dòng)能彌漫X光儀(原材料構(gòu)造分析/缺陷觀查,元素組成基本微區(qū)分析,精準(zhǔn)測(cè)量電子器件規(guī)格)
5.應(yīng)用激光器(不適感用以瓷器和金屬封裝)的封裝形式機(jī)殼一部分除去,使被檢樣品內(nèi)部構(gòu)造曝露。
6. EMMI微芒光學(xué)顯微鏡/OBIRCH鐳射束引起特性阻抗值轉(zhuǎn)變檢測(cè)/LC 液晶網(wǎng)絡(luò)熱點(diǎn)探測(cè)(這三者歸屬于常見(jiàn)泄露電流途徑分析手段,找尋發(fā)網(wǎng)絡(luò)熱點(diǎn),LC要依靠探針臺(tái),數(shù)字示波器)
7.激光切割制樣:應(yīng)用激光切割制樣控制模塊將小樣品開(kāi)展固定不動(dòng),以便捷后面試驗(yàn)開(kāi)展
8.去層:應(yīng)用低溫等離子刻蝕機(jī)(RIE)除去芯片內(nèi)部的鈍化層,使被檢樣品下一層金屬材料曝露,如需除去金屬材料層觀查下一層構(gòu)造,可運(yùn)用研磨設(shè)備開(kāi)展碾磨去層。
9. FIB做一些電源電路改動(dòng),相切觀查
詞條
詞條說(shuō)明
研磨與拋光材料的分類(lèi)1、棕剛玉粗磨石,各類(lèi)形狀包括:正三角、斜三角、斜圓柱、正圓柱、園珠型(石質(zhì)硬用于粗磨除毛刺、披鋒、氧化皮有切削力但痕跡比較粗糙)。2、塑膠石,各類(lèi)形狀包括:圓錐形、子彈頭、四面體、金字塔、不定形(膠質(zhì)比較軟用于中磨又稱(chēng)幼磨除毛刺、披鋒、氧化皮,可修復(fù)無(wú)深度的切削痕跡和工件本身殘留的痕跡,切削痕跡比較均勻細(xì)膩)。3、高鋁瓷、高頻瓷系列,形狀:正三角、斜三角、斜圓柱、正圓柱園珠型
為通訊行業(yè)服務(wù)無(wú)論是要嚴(yán)格檢測(cè)通訊連接器和PCB電路板,還是要精確測(cè)量尺寸較小的部件,英國(guó)工業(yè)顯微鏡有限公司提供的*特顯微鏡系列都能幫您快速、精確地完成任務(wù)。嚴(yán)格檢測(cè)對(duì)于連接器、PCB、隔離器、轉(zhuǎn)換器、光纖束或其它通訊行業(yè)部件的外觀檢測(cè),無(wú)論是入庫(kù)檢測(cè)、制造過(guò)程中檢測(cè)還是較終成品檢測(cè),Mantis Compact 或 Mantis Elite 體視顯微鏡都能幫您降低檢測(cè)難度并提高生產(chǎn)率。降低廢品率
tpu薄膜翹曲、形變或許發(fā)作的緣故主要有:制品脫模時(shí)沒(méi)有制冷、制品樣式及薄厚不一樣、填料過(guò)多、澆口入料不勻、**出體系不平衡、磨具溫度不勻、質(zhì)料緩存過(guò)多。針對(duì)所述問(wèn)題我們主要的解決辦法有:假如制品脫模時(shí)沒(méi)有制冷,就延長(zhǎng)制冷時(shí)刻。制品樣式及薄厚不一樣,一般我們變動(dòng)成型設(shè)計(jì)或加上提升肋條。對(duì)填料過(guò)多,降低注射壓力、速率、時(shí)刻和原材料使用量。當(dāng)澆口入料不勻時(shí),變更澆口或加上澆口總數(shù)。**出體系不平衡,一般只
OGP不僅是**良好的非接觸及多元傳感測(cè)量系統(tǒng)的創(chuàng)造者,也占據(jù)并**著全世界三維影像測(cè)量的技術(shù)發(fā)展和*。OGP的三次元測(cè)量?jī)x器,采用非接觸式(光學(xué))的方式,用于測(cè)量各種材質(zhì)、顏色、透明或半透明零件的幾何尺寸和形位公差(較可以在同一坐標(biāo)系下采用激光、探針等測(cè)量方式);測(cè)量行程從200mm到2000mm,測(cè)量精度從2um到4um,可根據(jù)用戶(hù)產(chǎn)品的特點(diǎn)和要求量身選配經(jīng)濟(jì)、高效的測(cè)量產(chǎn)品系列。OGP系列
公司名: 似空科學(xué)儀器(上海)有限公司
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