德國(guó)LASEROPTIK是一家專門制造高損傷閾值激光光學(xué)元件,以及VUV到IR涂層的公司,這篇文章主要介紹了LASEROPTIK涂層的類型,如增透膜、高反膜和半透反射膜
AR增透膜:抗反射膜
-較大限度地減少基材的表面反射以實(shí)現(xiàn)較高透射率,雙面涂層,用作窗口
-以較大限度地減少分束器的背面反射,用作背面涂層
AR:防反射鍍膜有VAR:單層增透膜,DAR:雙增透膜,TAR:三重增透膜,BBAR:寬帶增透膜,MAR:多重增透膜,WAR:廣角增透膜。
較小化表面反射
-VAR:單層增透膜:VAR : Single AR Coating
單個(gè)波長(zhǎng)或窄帶的較低反射
-DAR:雙波段透膜:DAR : Double AR Coating
較低反射,針對(duì)兩個(gè)波長(zhǎng)進(jìn)行了優(yōu)化
-TAR:三重增透膜:TAR : Triple AR Coating
較低反射,針對(duì)三個(gè)波長(zhǎng)進(jìn)行了優(yōu)化
-BBAR:寬帶增透膜:BBAR : Broadband AR Coating
較低反射,針對(duì)寬帶波長(zhǎng)范圍進(jìn)行了優(yōu)化
-MAR:多重增透膜:MAR : Multiple AR Coating
AR類型的組合
-WAR:廣角增透膜:WAR : Wide Angel AR Coating
針對(duì)寬入射角(例如0-45°)進(jìn)行了優(yōu)化,也可用于寬帶波長(zhǎng)范圍
HR:高反射涂層
用于較高反射,用作于腔鏡,全反射鏡,彎曲鏡,金屬鏡
HR:高反射涂層有:HR:單層HR涂層,DHR:雙HR涂層,BBHR:寬帶HR涂層,MHR:多重HR涂層,WHR:廣角HR鍍膜,金屬:金屬涂層
較大化表面反射
HR:單層HR涂層:HR : Single HR Coating
長(zhǎng)或窄帶的較高反射率單個(gè)波
DHR:雙HR涂層:Double HR Coating
較高反射率,針對(duì)兩個(gè)波長(zhǎng)進(jìn)行了優(yōu)化,也可用作HR+調(diào)整層
BBHR:寬帶HR涂層:BBHR : Broadband HR Coating
較高反射率,針對(duì)寬帶波長(zhǎng)范圍進(jìn)行了優(yōu)化
MHR:多重HR涂層:MHR : Multiple HR Coating
HR類型的組合
WHR:廣角HR鍍膜:WHR : Wide Angle HR Coating
較高反射率,針對(duì)寬入射角(例如0-45°)進(jìn)行了優(yōu)化,也可用于寬帶波長(zhǎng)范圍
金屬:金屬涂層:Metal : Metal Coatings
在寬波長(zhǎng)范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)高反射值。典型涂層:Ag、Au、Al
R:半透反射膜
-用于分離或減少入射光,用作部分反射器,輸出耦合器,衰減器,分束器,非偏振分束器。
PR:部分反射涂層有:具有固定反射/透射比的PR,PR通過AOI改變反射/透射比,PR隨光束位置改變反射/透射比
減少或分割入射光
-具有固定反射/透射比的PR:
PR:單層PR涂層:PR : Single PR Coating
單一波長(zhǎng)或窄帶的恒定反射/透射
DPR:雙PR涂層:DPR : Double PR Coating
兩個(gè)波長(zhǎng)的恒定反射/透射,比率可以單獨(dú)優(yōu)化
BBPR:寬帶PR涂層:BBPR : Broadband PR Coating
寬帶波長(zhǎng)范圍的恒定反射/透射
-PR通過AOI改變反射/透射比:
VA:可變衰減器VA : Variable Attenuator
通過改變AOI(例如0-45°)可以連續(xù)改變傳輸,也可作為反向可變衰減器(IVA)
-PR隨光束位置改變反射/透射比:
GOC:梯度輸出耦合器:GOC : Gradient Output Coupler
通過在橫梁上移動(dòng)矩形板(右中左位置)可以連續(xù)改變傳輸
詞條
詞條說明
在半導(dǎo)體行業(yè)中,較小的表面缺陷和顆粒是一個(gè)主要問題,這會(huì)降低產(chǎn)量并耗費(fèi)生產(chǎn)的時(shí)間和成本。因此,檢測(cè)半導(dǎo)體晶圓表面的缺陷和污染至關(guān)重要,這是在半導(dǎo)體計(jì)量行業(yè)許多客戶面臨的挑戰(zhàn)。晶圓表面檢測(cè)的快速且具有成本效益的方法之一是使用激光線照明和暗場(chǎng)/明場(chǎng)顯微鏡來檢測(cè)缺陷,通常在深紫外(DUV)波長(zhǎng)下檢測(cè)100nm以下的缺陷。在這種方法中,Holoor指出當(dāng)線沿徑向掃描時(shí),晶圓旋轉(zhuǎn),產(chǎn)生晶圓的大面積采樣,從而
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