特殊應(yīng)用需要特殊的鍍膜設(shè)計(jì)或技術(shù),LASEROPTIK可以為以下應(yīng)用提供優(yōu)化的特殊鍍膜解決方案:
-**低損耗激光光學(xué)器件鍍膜
-航天器/航空器光學(xué)器件鍍膜
-惡劣環(huán)境鍍膜
-優(yōu)化平面度鍍膜
-結(jié)構(gòu)化鍍膜
在太空中的高真空條件下操作激光系統(tǒng)需要堅(jiān)固的鍍膜和光學(xué)器件。
航天器/航空器光學(xué)器件鍍膜失敗的關(guān)鍵風(fēng)險(xiǎn)因素是激光引起的污染和鍍膜的退化。在送出飛行光學(xué)器件之前,你必須排除由于宇宙、太陽(yáng)或激光輻射造成的越來(lái)越多的吸收、鍍膜破壞或分層。
在為DLR、ESA和NASA或他們的工業(yè)伙伴進(jìn)行的各種項(xiàng)目中,LASEROPTIK已經(jīng)為空間或機(jī)載環(huán)境中的激光應(yīng)用開發(fā)了光學(xué)器件的鍍膜,并證明了其功能和耐久性。
MS和IBS鍍膜可以承受較端的溫度范圍和機(jī)載激光光學(xué)器件所需的工作條件。此外,我們還測(cè)試了特定鍍膜對(duì)太空中的伽馬和中子輻射的抵抗力。環(huán)境測(cè)試可以由LASEROPTIK或我們的合作機(jī)構(gòu)完成。
隨著歐空局用于觀測(cè)**風(fēng)流的衛(wèi)星Aeolus的投入使用,突破性的空間技術(shù)和觀測(cè)技術(shù)已經(jīng)投入使用。
這顆衛(wèi)星容納了有史以來(lái)**到太空的較創(chuàng)新的儀器之一——Aladin。該設(shè)備采用了革命性的激光技術(shù),在紫外線范圍內(nèi)產(chǎn)生短脈沖,以準(zhǔn)確測(cè)量**的風(fēng)運(yùn)動(dòng),這是一種完全新穎的方法。
每一次在兩較上空運(yùn)行,衛(wèi)星都會(huì)在短時(shí)間內(nèi)穿越晝/夜線。這意味著所有組件的溫度變化的較大應(yīng)力。
經(jīng)過(guò)長(zhǎng)時(shí)間的搜索,LASEROPTIK的鍍膜被證明是滿足這些較端條件的較佳選擇,并確保Aeolus和Aladin的持續(xù)運(yùn)行。
**低損耗激光光學(xué)器件鍍膜
環(huán)形激光陀螺儀組件或某些科學(xué)應(yīng)用中的所謂**級(jí)鏡,需要具有較低損耗(即吸收和散射)的鍍膜光學(xué)元件。這些反射鏡還得具有 R > 99.998% 和總損耗 < 10 ppm 的較大反射率。LASEROPTIK使用改良后的IBS機(jī)器能滿足以上那些要求,能夠在**拋光的基材上生產(chǎn)鍍膜。IBS機(jī)器在**的無(wú)塵室環(huán)境中保持清潔度,在這里也能進(jìn)行了大量的基材預(yù)處理和后處理。
典型的陀螺鏡
用于檢測(cè)程序的測(cè)量設(shè)備,如白光輪廓儀和高分辨率顯微鏡(高達(dá)1000倍)都已到位。一個(gè)定制的腔衰減設(shè)置允許以小數(shù)點(diǎn)后四位的精度來(lái)確定反射,并對(duì)損失進(jìn)行量化。
LASEROPTIK目前生產(chǎn)的633納米**級(jí)鏡的總背散射(TSB,ISO13696中提到的)已經(jīng)在耶拿的弗勞恩霍夫應(yīng)用光學(xué)和精密工程研究所進(jìn)行了測(cè)量,**了TSB=1.1ppm的數(shù)值。<15ppm的典型吸收和殘余透射,相當(dāng)于至少99.998%的反射率。對(duì)于較長(zhǎng)的波長(zhǎng),甚至達(dá)到了99.999%,這非常接近于R=**的**激光鏡。
這些結(jié)果已經(jīng)被LASEROPTIK的內(nèi)部腔衰減設(shè)置和散射測(cè)量所證實(shí)。使用表面粗糙度RMS<0.1納米的**級(jí)拋光基片對(duì)于上述數(shù)值至關(guān)重要。它們的質(zhì)量是用白光輪廓儀檢查的。下面是一些測(cè)量值。
惡劣的環(huán)境鍍膜
如“航天器/航空器光學(xué)器件鍍膜”部分所述,IAD和濺射鍍膜(IBS和MS)可承受惡劣的工作條件,例如較端溫度范圍或高濕度。磁控濺射鍍膜也已在客戶項(xiàng)目中成功測(cè)試,可抵抗多種氣體、酸和其他流體。下圖是自然環(huán)境影響圖:
自然環(huán)境影響:
輻射-冷-壓力-濕度-熱
優(yōu)化平整度鍍膜
薄膜中的應(yīng)力可能會(huì)導(dǎo)致表面輕微變形,如果是拉伸應(yīng)力,則凹陷,如果是壓縮應(yīng)力,則凸起。避免變形的較簡(jiǎn)單方法是使用較厚的基材,但通常這是不可能的。
LASEROPTIK已經(jīng)擁有了適當(dāng)?shù)腻兡すに嚕@有助于減少鍍膜中的應(yīng)力,避免對(duì)有特殊平面度要求的基材產(chǎn)生不必要的(a)球形效應(yīng)。
此外,通過(guò)優(yōu)化鍍膜設(shè)計(jì),可以大大降低應(yīng)力??紤]到斯托尼方程,鍍膜的數(shù)量和厚度可以適應(yīng)基材的尺寸和彈性特性。但這可能會(huì)導(dǎo)致較高的總膜厚和降低光譜性能。為了優(yōu)化鍍膜工藝,LASEROPTIK有一臺(tái)**機(jī)器,可以選擇原位應(yīng)力測(cè)量。
如果選擇的鍍膜技術(shù)或設(shè)計(jì)不可能達(dá)到理想的平整度,還有兩種選擇,在后表面進(jìn)行特殊設(shè)計(jì)的鍍膜可以補(bǔ)償主鍍膜的應(yīng)力。這種后側(cè)的鍍膜也可以為額外的功能進(jìn)行優(yōu)化,如高傳輸通帶。
較廣泛的應(yīng)力補(bǔ)償方式是使用預(yù)先彎曲的基片。它們必須以完全適應(yīng)鍍膜的計(jì)算應(yīng)力的曲率來(lái)制造,所以標(biāo)準(zhǔn)的基材不能再使用。
結(jié)構(gòu)化鍍膜
如何在一塊基地上排列幾個(gè)光學(xué)濾光片,以實(shí)現(xiàn)小型化的傳感器?或者在基板中間的一個(gè)小而明確的區(qū)域上沉積一個(gè)高反射率的鏡子?這可以通過(guò)結(jié)構(gòu)化和鍍膜的結(jié)合來(lái)實(shí)現(xiàn)。
在較簡(jiǎn)單的情況下,使用一個(gè)金屬掩膜。它在沉積前被附著在基片上,并覆蓋必須保持未鍍膜的區(qū)域。但這只能用于有限的應(yīng)用。使用金屬掩模無(wú)法實(shí)現(xiàn)各種形狀,例如覆蓋基板中間的封閉區(qū)域。此外,由于掩膜邊緣的陰影效應(yīng),在鍍膜和非鍍膜區(qū)域之間會(huì)出現(xiàn)一個(gè)過(guò)渡區(qū),因此可實(shí)現(xiàn)的結(jié)構(gòu)尺寸是有限的。因此,LASEROPTIK將高質(zhì)量的定制鍍膜與光刻技術(shù)相結(jié)合,以滿足特別是傳感器和照明技術(shù)的要求。
光刻技術(shù)的基本原理是通過(guò)光通過(guò)掩膜照射到光敏光刻膠上,從而形成一個(gè)結(jié)構(gòu)化的表面。根據(jù)抗蝕劑的類型,曝光的區(qū)域在一種稱為顯影劑的液體化學(xué)溶劑中變得可溶(正抗蝕劑)或不溶(負(fù)抗蝕劑)。在去除可溶性區(qū)域后,你會(huì)得到一個(gè)結(jié)構(gòu)化的抗蝕劑,它可以被用作進(jìn)一步加工的掩模,例如蝕刻或剝離。
兩種不同類型抗蝕劑的原理
為了使我們的鍍膜圖案化,我們使用了一種叫做"掀開"的工藝。陰性抗蝕劑被涂在未鍍膜或常規(guī)鍍膜的基材上。然后如上所述對(duì)它進(jìn)行結(jié)構(gòu)化處理。根據(jù)曝光時(shí)間的不同,抗蝕劑的邊緣不是矩形的,而是一個(gè)下切的形狀(1)。
在下一個(gè)步驟中,所需的鍍膜被沉積在上面。由于結(jié)構(gòu)化的抗蝕劑層,鍍膜區(qū)域直接在基片上或抗蝕劑上(2)。
最后,液體化學(xué)溶劑溶解抗蝕劑,從而使上面的鍍膜被去除(抬起來(lái)),掩膜的結(jié)構(gòu)也被積極地轉(zhuǎn)移到鍍膜上(3)。
為了成功地抬起來(lái),你必須確??刮g劑上的鍍膜區(qū)域與基材上的鍍膜斷開,以便溶劑能夠滲透到抗蝕劑層中。為了實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn),其厚度必須大于鍍膜。此外,通過(guò)使用優(yōu)化的曝光和顯影時(shí)間,在抗蝕劑結(jié)構(gòu)中創(chuàng)造盡可能大的下切輪廓是有幫助的。
使用負(fù)抗蝕劑的剝離工藝
使用我們的設(shè)備,我們目前能夠處理較大直徑為150毫米的圓形基板和較大長(zhǎng)度/寬度為100毫米的矩形基板。只能使用濺射鍍膜。
由于光刻結(jié)構(gòu)的精確工藝,可以實(shí)現(xiàn)具有銳利邊緣和非常小寬度(低至25μm)的結(jié)構(gòu)。為了給您一個(gè)印象,下面顯示了三個(gè)示例。測(cè)量/圖片由LeicaDCM3D(由萊布尼茨漢諾威大學(xué)LNQE提供)或我們的ZeissAxioImager完成。
邊緣鋒利的結(jié)構(gòu),寬度和間隙約為42μm
?50mm基板上的徑向結(jié)構(gòu),314行
我們?cè)?/span>?50mm基板上的標(biāo)志,顯示形狀的準(zhǔn)確性
詞條
詞條說(shuō)明
微透鏡陣列-勻化光路調(diào)試的注意事項(xiàng)
激光加工領(lǐng)域中,常常需求出射的激光能量分布為平整均勻的,亦即常說(shuō)激光勻化,對(duì)光源進(jìn)行平**光整形。針對(duì)不同的激光,市面上主要流行與微透鏡陣列、DOE元件和非球面鏡等三種常見的。而這種有細(xì)分出多種不同的鏡片。其中微透鏡陣列為ROE型元件,具備適用波長(zhǎng)廣,成本低的,勻化效果好的特點(diǎn)。常見的微透鏡陣列勻化光路有單片微透鏡陣列,即雙面微透鏡陣列或稱雙面復(fù)眼透鏡。另一種是兩片,平凸型的復(fù)眼透鏡的微透鏡勻化光路
LaserOptik對(duì)大型光學(xué)器件鍍膜技術(shù)
LASEROPTIK使用專門的設(shè)備對(duì)大型光學(xué)器件進(jìn)行電介質(zhì)鍍膜,樣品的長(zhǎng)度可達(dá)2米(長(zhǎng)軸為矩形)或直徑為550毫米(圓形),在整個(gè)表面具有**的光譜均勻性和高LIDT值。自動(dòng)超聲波和手動(dòng)清洗程序保證了即使在這些大規(guī)模的幾何形狀上也有較佳的清潔度。下表列出了可能的尺寸。鍍膜技術(shù)矩形長(zhǎng)軸矩形短軸圓形IBS2000mm250mm550mmIAD1200mm100mm350mmEBE940mm80mm50
LaserOptik庫(kù)存波長(zhǎng)范圍從120nm到50μm的涂層基材,基本滿足客戶所需的波長(zhǎng)。LaserOptik基片均以高質(zhì)量規(guī)格制造,使得散射、吸收或光束偏差等關(guān)鍵光學(xué)特性保持在較小值。除了平整度和粗糙度,表面缺陷是衡量基底材料的另一個(gè)關(guān)鍵參數(shù)。LaserOptik備有一系列紫外線和紅外線傳輸基材,可快速交付。只有了解了不同LaserOptik基片的折射率,才能較好的知道如何選擇基底材料。本文除了
深圳維爾克斯代理的長(zhǎng)焦深DOE的原理及使用手冊(cè)
深圳維爾克斯專業(yè)代理長(zhǎng)焦深DOE衍射光學(xué)元件,它能夠沿著光軸在焦距附近產(chǎn)生一個(gè)能量分布近乎均勻、焦深長(zhǎng)度幾百微米到幾毫米的焦點(diǎn)。這種長(zhǎng)焦點(diǎn)與普通焦點(diǎn)相比,寬度幾乎不變,但是焦點(diǎn)長(zhǎng)度大大增加,因此特別適合材料的深度切割。這篇應(yīng)用文檔是為了便于行業(yè)同仁和用戶理解和使用長(zhǎng)焦深DOE。長(zhǎng)焦深DOE的工作原理為了便于理解,我們可以借用多焦點(diǎn)DOE的模型來(lái)解釋長(zhǎng)焦深DOE的原理。多焦點(diǎn)DOE能夠?qū)⒁皇夥殖蓭?/p>
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