英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測量 上海伯東代理的英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測量應(yīng)用, 某高校老師通過原子力顯微鏡進行硅片表面形貌測量和表面粗糙度測量, 便于后續(xù)進行拉曼增強. 測試方法: 選用上海伯東英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡 ezAFM 進行測試. 將樣品放置在樣品臺, 通過系統(tǒng)軟件自動控制. 原子力顯微鏡測試條件(圖像參數(shù)): : 英國 NanoMagnetics 原子力顯微鏡型號: ezAFM 模式: 動態(tài)模式 分辨率 ( pixels ): 512 x 512 懸臂類型: ACLA from App Nano Set RMS: 1.0 VRMS Free RMS: 2.0 VRMS 原子力顯微鏡 ezAFM 性能: 掃描范圍: 120 x 120 x 40 μm 或 40 x 40 x 4 μm 模式: 接觸模式, 動態(tài)力 / 相位成像模式, 側(cè)向力顯微鏡 LFM 和磁力顯微鏡 MFM 模式 噪聲基底: 65 fm √Hz 分辨率: 2μm 集成光學(xué)顯微鏡 全高清攝像機:390x230μm, 2516x1960, pixels, 30fps, 樣品尺寸:10 x 10 x 5mm ( 可配置為不限制樣品尺寸 ) 英國 NanoMagnetics 儀器 1998年在牛津成立, 作為原子力顯微鏡 AFM 制造商, 主營環(huán)境掃描探針顯微鏡 SPM, 低溫掃描探針顯微鏡 LT-SPM, 霍爾效應(yīng)測量系統(tǒng)等, 原子力顯微鏡適用于產(chǎn)品表面特征分析, 生命科學(xué), 原位成像, 材料科學(xué), 薄膜等領(lǐng)域.廣泛應(yīng)用于牛津大學(xué), 斯坦福, 京都大學(xué), NASA 等學(xué)府和科研院所.
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詞條說明
KRi 大面積射頻離子源應(yīng)用于 12英寸,8英寸 IBE 離子束蝕刻系統(tǒng)
上海伯東美國?KRi 考夫曼公司大面積射頻離子源? RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸 IBE? 離子束蝕刻機, 刻蝕均勻性(1 σ)達(dá)到< 1%. 可以用來刻蝕任何固體材料, 包括金屬, 合金, 氧化物, 化合物, 混合材料, 半導(dǎo)體, 絕緣體, 導(dǎo)體等.離子束刻蝕屬于干法刻蝕, 其部件為大面積離子源. 作為蝕刻機的部件,
氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340?真空鍍膜配氣面板檢漏上海伯東某客戶生產(chǎn)高純度特種氣體不銹鋼減壓閥門, 接頭, 管件, 這些配件主要用于集成在真空鍍膜配氣面板, 實現(xiàn)工藝氣體的傳輸. 為了防止氣體外泄, 除了閥門, 接頭, 管件需要單檢漏外, 整個配氣面板也需要測試整體漏率, 使用上海伯東德國 Pfeiffer?氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340, 真空模式下, 漏率設(shè)置為 5.5x
殘余氣體分析儀應(yīng)用于高溫真空爐, 實現(xiàn)質(zhì)量保證和過程優(yōu)化
殘余氣體分析儀應(yīng)用于高溫真空爐, 實現(xiàn)質(zhì)量保證和過程優(yōu)化上海伯東某客戶生產(chǎn)研發(fā) X 射線管及組件, 使用德國 Pfeiffer?Hicube RGA 殘余氣體分析儀與高溫真空爐連接, 測試產(chǎn)品在不同溫度下?lián)]發(fā)的產(chǎn)物變化, 進一步分析產(chǎn)品的耐用性以及使用形態(tài). 實現(xiàn)真空過程相關(guān)的質(zhì)量控制, 滿足 X 射線管工藝要求.殘余氣體分析儀質(zhì)量保證和過程優(yōu)化諸如提供氣體成分定量測定, 確定過程氣體純
Pfeiffer?分子泵組玻璃封管抽真空進行金屬燒結(jié)試驗上海伯東德國 Pfeiffer 經(jīng)濟型分子泵組?Hicube 80 Eco 成功應(yīng)用于玻璃封管抽真空, 進行金屬燒結(jié)試驗, 主要應(yīng)用如下:系統(tǒng)真空度要求: 10-4 mbar1. 玻璃管內(nèi)放置金屬材料2. 利用分子泵組提供穩(wěn)定的真空, 封住玻璃管, 抽走多余的空氣和水汽, 減少水, 氧, 氮等氣體對燒結(jié)的不良影響, 然后對
公司名: 伯東企業(yè)(上海)有限公司
聯(lián)系人: 葉南晶
電 話: 021-50463511
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地 址: 上海浦東高橋上海浦東新區(qū)新金橋路1888號36號樓7樓702室
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