石英玻璃的光學(xué)性能
英玻璃的光學(xué)性能有其*到之處,它既可以透過遠(yuǎn)紫外光譜,是所有透紫外材料較優(yōu)者,又可透過可見光和近紅外光譜。用戶可以根據(jù)需要,從185-3500mμ波段范圍內(nèi)任意選擇所需品種。由于石英玻璃耐高溫,熱膨脹系數(shù)較小,化學(xué)熱穩(wěn)定性好,氣泡、條紋、均勻性、雙折射又可與一般光學(xué)玻璃媲美,所以它是在各種惡劣場合下工作具有高穩(wěn)定度光學(xué)系統(tǒng)的**的光學(xué)材料。
石英玻璃的結(jié)構(gòu),雜質(zhì)含量,OH基因及NO、CO等含量是影響光譜透過率的主要因素,氧原子結(jié)合不良在0.24μ處則有吸收峰,含有OH基團(tuán)的石英玻璃,在2.7μ處由于分子振動將產(chǎn)生明顯的吸收峰,紫外透過率低主要是由于金屬雜質(zhì)多造成原子吸收光譜所致。
石英玻璃的光譜特性曲線
電熔石英玻璃是很好的透紅外材料,但由于雜質(zhì)的存在,紫外透過率低。氫氧焰熔制水晶所獲得的石英玻璃,由于氧結(jié)構(gòu)缺陷,在0.24μ處有吸收峰,同時含有OH基團(tuán),所以紅外透過較低。用合成原料氣煉的高純光學(xué)石英玻璃是較好的透紫外材料,但在2.7μ處有嚴(yán)重的OH吸收峰。只有用合成原料通過電熔或無氫火焰熔融而成的光學(xué)石英玻璃,才能很好地透過從遠(yuǎn)紫外到近紅外的連續(xù)光譜。
石英玻璃的折射率及光學(xué)常數(shù)見表7、表8.
表7 光學(xué)石英玻璃的折射率(之一)
波長(毫微米) 水晶熔制石英玻璃 合成石英玻璃
185.41 1.57464 -
193.53 1.56071 -
202.54 1.54729 1.54717
206.20 1.54269 1.54266
213.85 - 1.53434
214.45 1.53385 -
226.50 1.52318 1.52299
232.94 1.51834 -
237.83 - 1.51473
248.20 - 1.50841
250.20 1.50762 -
257.62 1.50397 1.50351
265.36 - 1.49994
274.87 1.49634 -
280.35 - 1.49403
289.36 - 1.49098
298.06 1.48859 1.48837
307.59 - 1.48575
313.17 - 1.48433
328.36 1.48183 -
334.15 - 1.47976
340.36 1.47877 1.47860
346.69 1.47766 1.47748
361.17 1.47513 1.47503
365.48 - 1.47448
398.84 1.47028 -
404.65 - 1.46961
435.83 1.46679 1.46669
486.13 1.46324 1.46314
546.07 1.46021 1.46007
587.56 1.45857 1.45847
656.27 1.45646 1.45637
注:測量誤差:±3×10-5
表7 光學(xué)石英玻璃的折射率(之二)
波長λ(微米) 折射率 波長λ(微米) 折射率
0.67 1.456066 1.30 1.446980
0.68 1.455818 1.40 1.445845
0.69 1.455579 1.50 1.444687
0.70 1.455347 1.60 1.443492
0.80 1.453371 1.70 1.442250
0.90 1.451808 1.80 1.440954
1.00 1.450473 1.90 1.439957
1.10 1.440261 2.00 1.438174
1.20 1.448110 2.10 1.436680
2.20 1.435111 2.90 1.421684
2.30 1.433462 3.00 1.41937
2.40 1.431730 3.10 1.41694
2.50 1.429911 3.20 1.41440
2.60 1.428001 3.30 1.41173
2.70 1.425995 3.40 1.40893
2.80 1.423891 3.50 1.40601
表8 石英玻璃的光學(xué)常數(shù)
項目 指標(biāo)及品種
水晶熔制石英玻璃 合成石英玻璃
Nd(He587.56mμ) 1.45857 1.4587
Nf(H486.13mμ) 1.46324 1.46314
Nc(H656.27mμ) 1.45646 1.45637
色散系數(shù) V=(Nd-1)/(Nf-Nc) 67.6 67.7
中部色散: Nf-Nc 0.00678 0.00677
詞條
詞條說明
硅片切割一般有什么難點?1、雜質(zhì)線痕:由多晶硅錠內(nèi)雜質(zhì)引起,在切片過程中無法完全去除,導(dǎo)致硅片上產(chǎn)生相關(guān)線痕。2、劃傷線痕:由砂漿中的SIC大顆?;蛏皾{結(jié)塊引起。切割過程中,SIC顆?!翱ā痹阡摼€與硅片之間,無法溢出,造成線痕。表現(xiàn)形式:包括整條線痕和半截線痕,內(nèi)凹,線痕發(fā)亮,較其它線痕較加窄細(xì)。3、密布線痕(密集型線痕):由于砂漿的磨削能力不夠或者切片機(jī)砂漿回路系統(tǒng)問題,造成硅片上出現(xiàn)密集線痕區(qū)
失透(又叫析晶性)是石英玻璃的一個固有缺陷,從熱力學(xué)觀點看,石英玻璃的內(nèi)能**結(jié)晶態(tài)方石英,屬熱力學(xué)上不穩(wěn)定的亞穩(wěn)態(tài),當(dāng)溫度**1000℃時,SiO2?分子振動加速,經(jīng)一段較長時間的重新排列、定向便形成結(jié)晶。失透性是以晶核成長速度來表示的,不透明石英玻璃在1520℃、透明石英玻璃在1620℃析晶速度分別達(dá)到較大值。析晶主要出現(xiàn)在表面,其次是內(nèi)部缺陷處,原因是這些地方容易沾污,引起雜質(zhì)離子
激光切割玻璃的應(yīng)用,電子行業(yè)中用于裝有玻璃的通訊移動產(chǎn)品的制造;包含薄玻璃易碎部件的產(chǎn)品,如傳感器、觸控板或玻璃外殼,希望減少加工步驟來降低生產(chǎn)成本;現(xiàn)有的生產(chǎn)遇到經(jīng)濟(jì)壓力需要巨大的生產(chǎn)方式改良等,玻璃激光切割新技術(shù)都成為可以選擇。 玻璃激光切割是一項創(chuàng)新技術(shù),已在電子、汽車、建筑行業(yè)得到應(yīng)用,同時該技術(shù)能用在加工其他易碎材料,如制造電子行業(yè)藍(lán)寶石晶圓的材料,太陽能產(chǎn)業(yè),其他半導(dǎo)體行業(yè)常見的材料等
硅片切割機(jī)又名硅片激光切割機(jī)、激光劃片機(jī)。硅片切割機(jī)工作原理是利用高能激光束照射在工件表面,使被照射區(qū)域局部熔化、氣化、從而實現(xiàn)硅材料的切割。硅片切割機(jī)主要用于金屬材料及硅、鍺、砷化鎵和其他半導(dǎo)體襯底材料的劃片和切割,可加工太陽能電池板、硅片、陶瓷片、鋁箔片等,工件精細(xì)美觀,切邊光滑,可較大地提高加工效率和優(yōu)化加工效果。硅片切割機(jī)又名硅片激光切割機(jī),激光劃片機(jī)。是激光劃片機(jī)在 電子行業(yè)硅基片的切割
公司名: 北京華諾恒宇光能科技有限公司
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電 話: 010-83687269
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