失效分析技術(shù),失效分析實(shí)驗(yàn)室,失效機(jī)制是導(dǎo)致零件、元器件和材料失效的物理或化學(xué)過(guò)程。此過(guò)程的誘發(fā)因素有內(nèi)部的和外部的。在研究失效機(jī)制時(shí),通常先從外部誘發(fā)因素和失效表現(xiàn)形式入手,進(jìn)而再研究較隱蔽的內(nèi)在因素。在研究批量性失效規(guī)律時(shí),常用數(shù)理統(tǒng)計(jì)方法,構(gòu)成表示失效機(jī)制、失效方式或失效部位與失效頻度、失效百分比或失效經(jīng)濟(jì)損失之間關(guān)系的排列圖或帕雷托圖,以找出必須首先解決的主要失效機(jī)制、方位和部位。任一產(chǎn)品或系統(tǒng)的構(gòu)成都是有層次的,失效原因也具有層次性,如系統(tǒng)-單機(jī)-部件(組件)-零件(元件)-材料。上一層次的失效原因即是下一層次的失效現(xiàn)象。越是低層次的失效現(xiàn)象,就越是本質(zhì)的失效原因。 儀準(zhǔn)做失效分析的意義,失效分析技術(shù) 失效分析實(shí)驗(yàn)室,產(chǎn)品質(zhì)量是企業(yè)的生命線。提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長(zhǎng)零部件的使用壽命,是企業(yè)的立足之本。 零件失效分析意義: 1.減少和預(yù)防同類(lèi)機(jī)械零件的失效現(xiàn)象重復(fù)發(fā)生,**產(chǎn)品質(zhì)量,提高產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力。 2.分析機(jī)械零件失效原因,為事故責(zé)任認(rèn)定、偵破刑事犯罪案件、裁定賠償責(zé)任、保險(xiǎn)業(yè)務(wù)、修改產(chǎn)品質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)等提供科學(xué)依據(jù)。 3.為企業(yè)技術(shù)開(kāi)發(fā)、技術(shù)改造提供信息,增加企業(yè)產(chǎn)品技術(shù)含量,從而獲得較大的經(jīng)濟(jì)效益。 失效分析技術(shù) 失效分析實(shí)驗(yàn)室,分析步驟編輯 一、事故調(diào)查 1.現(xiàn)場(chǎng)調(diào)查 2.失效件的收集 3.走訪當(dāng)事人和目擊者 二、資料搜集 1.設(shè)計(jì)資料:機(jī)械設(shè)計(jì)資料,零件圖 2.材料資料:原材料檢測(cè)記錄 3.工藝資料:加工工藝流程卡、裝配圖 4.使用資料:維修記錄,使用記錄等 三、失效分析工作流程 1.失效機(jī)械的結(jié)構(gòu)分析 失效件與相關(guān)件的相互關(guān)系,載荷形式、受力方向的初步確定 2.失效件的粗視分析 用眼睛或者放大鏡觀察失效零件,粗略判斷失效類(lèi)型(性質(zhì))。 3.失效件的微觀分析 用金相顯微鏡、電子顯微鏡觀察失效零件的微觀形貌,分析失效類(lèi)型(性質(zhì))和原因。 4.失效件材料的成分分析 用光譜儀、能譜儀等現(xiàn)代分析儀器,測(cè)定失效件材料的化學(xué)成分。 5.失效件材料的力學(xué)性能檢測(cè) 用拉伸試驗(yàn)機(jī)、彎曲試驗(yàn)機(jī)、沖擊試驗(yàn)機(jī)、硬度試驗(yàn)機(jī)等測(cè)定材料的抗拉強(qiáng)度、彎曲強(qiáng)度、沖擊韌度、硬度等力學(xué)性能。 6.應(yīng)力測(cè)試、測(cè)定:用x光應(yīng)力測(cè)定儀測(cè)定應(yīng)力 用x光應(yīng)力測(cè)定儀測(cè)定應(yīng)力 7.失效件材料的組成相分析 用x光結(jié)構(gòu)分析儀分析失效件材料的組成相。 8.模擬試驗(yàn)(必要時(shí)) 在同樣工況下進(jìn)行試驗(yàn),或者在模擬工況下進(jìn)行試驗(yàn)。 四、分析結(jié)果提交 1.提出失效性質(zhì)、失效原因 2.提出預(yù)防措施 3.提交失效分析報(bào)告
詞條
詞條說(shuō)明
FIB - SEM雙束系統(tǒng)在微電子領(lǐng)域的應(yīng)用 隨著半導(dǎo)體電子器件及集成電路技術(shù)的飛速發(fā)展,器件及電路結(jié)構(gòu)越來(lái)越復(fù)雜,這對(duì)微電子芯片工藝診斷、失效分析、微納加工的要求也越來(lái)越高。FIB - SEM雙束系統(tǒng)所具備的強(qiáng)大的精細(xì)加工和微觀分析功能,使其廣泛應(yīng)用于微電子設(shè)計(jì)和制造領(lǐng)域。 基本原理: FIB - SEM雙束系統(tǒng)是指同時(shí)具有聚焦離子束(Focused Ion Beam,F(xiàn)IB)和掃描電子顯微鏡(
芯片失效分析方法: 1.OM 顯微鏡觀測(cè),外觀分析 2.C-SAM(超聲波掃描顯微鏡) (1)材料內(nèi)部的晶格結(jié)構(gòu),雜質(zhì)顆粒,夾雜物,沉淀物, (2) 內(nèi)部裂紋。 (3)分層缺陷。(4)空洞,氣泡,空隙等。 3. X-Ray 檢測(cè)IC封裝中的各種缺陷如層剝離、爆裂、空洞以及打線的完整性,PCB制程中可能存在的缺陷如對(duì)齊不良或橋接,開(kāi)路、短路或不正常連接的缺陷,封裝中的錫球完整性。(這幾種是芯片發(fā)生失
2018年失效分析技術(shù)分享活動(dòng),儀準(zhǔn)科技自2012年在北京建立以來(lái),一直受到半導(dǎo)體行業(yè)內(nèi)**們的支持與鼓勵(lì),這6年來(lái),有贊美,有夸獎(jiǎng),有磕絆,也有不足;感謝大家一直以來(lái)的包容與支持,**們之間的反饋與意見(jiàn)是我們進(jìn)步的較大推動(dòng)力。 我們也一直在半導(dǎo)體行業(yè)中努力吸收新鮮知識(shí),緊跟行業(yè)潮流,完善公司設(shè)備及技術(shù)要求,盡我們的較大努力,去達(dá)到實(shí)驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)。 儀準(zhǔn)科技特此推出2018年年中的優(yōu)惠活動(dòng),以此來(lái)回饋新
失效分析是一門(mén)發(fā)展中的新興學(xué)科,近年開(kāi)始從**向普通企業(yè)普及。它一般根據(jù)失效模式和現(xiàn)象,通過(guò)分析和驗(yàn)證,模擬重現(xiàn)失效的現(xiàn)象,找出失效的原因,挖掘出失效的機(jī)理的活動(dòng)。在提高產(chǎn)品質(zhì)量,技術(shù)開(kāi)發(fā)、改進(jìn),產(chǎn)品修復(fù)及仲裁失效事故等方面具有很強(qiáng)的實(shí)際意義。其方法分為有損分析,無(wú)損分析,物理分析,化學(xué)分析等。 原理 失效機(jī)制是導(dǎo)致零件、元器件和材料失效的物理或化學(xué)過(guò)程。此過(guò)程的誘發(fā)因素有內(nèi)部的和外部的。在研究失
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半導(dǎo)體探針臺(tái)手動(dòng)探針臺(tái)電性測(cè)試探針臺(tái)probe station失效分析設(shè)備wafer測(cè)試芯片測(cè)試設(shè)備
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