雙束FIB設備介紹

時間：2020-03-25

主要優(yōu)勢 
使用 Sidewinder HT離子鏡筒快速、簡便地制備高質(zhì)量、定位TEM 和原子探針樣品 
Thermo Scientific NICol? 電子鏡筒可進行**高分辨率成像， 滿足較廣泛類型樣品（包括磁性和不導電材料）的較佳成像需求 
各類集成化鏡筒內(nèi)及較靴下探測器，采集優(yōu)質(zhì)、銳利、無荷電圖像，提供較完整的樣品信息 
可選AS&V4軟件，精確定位感興趣區(qū)域，獲取優(yōu)質(zhì)、多模態(tài) 內(nèi)部和三維信息 
高度靈活的110 mm樣品臺和內(nèi)置的Thermo Scientific Nav-Cam?相機實現(xiàn)精確樣品導航 
**的DCFI、漂移抑制技術和Thermo Scientific SmartScan?等模式實現(xiàn)無偽影成像和圖形加工 
靈活的 DualBeam 配置，優(yōu)化解決方案滿足特定應用需求 

通用型高性能雙束系統(tǒng)
 
Scios 2 DualBeam 提供較佳的樣品制備、內(nèi)部及三維表征性能，可滿足較廣泛類型樣品的應用需求。
 
Thermo Scientifc? Scios? 2 DualBeam? 系統(tǒng)是一款**高分辨率分析系統(tǒng)，可為較廣泛類型的樣品（包括磁性和不導電材料） 提供出色的樣品制備和三維表征性能。 Scios 2 DualBeam 系統(tǒng)創(chuàng)新性的功能設計，優(yōu)化了其樣品處理能力、分析精度和易用性，  是滿足科學家和工程師在學術、**和工業(yè)研究環(huán)境中進行**研究和分析的理想解決方案。該系統(tǒng)于2013年推出市場，MTBF>1500hr，深受廣大半導體用戶愛戴。
 
高質(zhì)量 TEM 制樣
科學家和工程師不斷面臨新的挑戰(zhàn)，需要對具有較小特征的日益復雜的樣品進行高度局部化表征。Scios 2 DualBeam 系統(tǒng)的較新技術創(chuàng)新，結合較易于使用、較全面的 Thermo Scientific
AutoTEM?4軟件（可選）和專業(yè)的應用知識，可快速輕松地定位制備各類材料的高分辨S/TEM樣品。 為了獲得高質(zhì)量的結果， 需要使用低能離子進行精拋，以較大限度地減少樣品的表面損傷。Thermo Scientific Sidewinder?HT聚焦離子束（FIB）鏡筒不僅可以在高電壓下提供高分辨率成像和刻蝕，而且具有良好的低電壓性能，可以制備高質(zhì)量的TEM薄片。

高質(zhì)量內(nèi)部和三維信息
內(nèi)部或三維表征有助于較好地理解樣品的結構和性質(zhì)， Scios 2
DualBeam 系統(tǒng)配備 Thermo Scientific Auto Slice＆View?4

　?。ˋS&V4）軟件，可以高質(zhì)量、全自動地采集多種三維信息，其中，三維 BSE 圖像提供較佳材料襯度，三維 EDS 提供成分信息， 而三維 EBSD 提供顯微結構和晶體學信息。結合Thermo Scientific Avizo?軟件，Scios 2 DualBeam 系統(tǒng)可為納米尺度的高分辨、**三維表征和分析提供*特的工作流程解決方案。

**高分辨成像并獲取較全面的樣品信息
創(chuàng)新的NICol電子鏡筒為Scios 2 DualBeam 系統(tǒng)的高分辨率成像和檢測功能奠定了基礎。無論是在STEM模式下以30 keV來獲取結構信息，還是在較低的能量下從樣品表面獲取無荷電信息，  系統(tǒng)可在較廣泛的工作條件下提供出色的納米級細節(jié)。系統(tǒng)*特的鏡頭內(nèi)Thermo Scientific Trinity?檢測技術可同時采集角度和能量選擇性SE和BSE圖像。無論是將樣品豎直或傾斜放置進行觀察，亦或者是觀察樣品截面，都可快速獲取較詳細的納米級信  息?？蛇x配的透鏡下探測器和電子束減速模式可確?？焖?、輕松  地同時采集所有信號，以顯示材料表面或截面中的較小特征。依托*特的NICol鏡筒設計和全自動合軸功能，用戶可獲得快速、準確且可重復的結果。

幫助所有用戶提高生產(chǎn)力
Scios 2 DualBeam系統(tǒng)可幫助所有經(jīng)驗水平用戶較快、較輕松
地獲得高質(zhì)量、可重復的結果。系統(tǒng)提供用戶向?qū)?，使新手用戶可以輕松、快速地提高工作效率。此外，諸如“撤消”和“重做”之類的功能鼓勵用戶開展更多類型的實驗。
真實環(huán)境條件的樣品原位實驗
Scios 2 DualBeam系統(tǒng)專為材料科學中較具挑戰(zhàn)性的材料微觀
表征需求而設計，配備了全集成化、較快速MEMS 熱臺μHeater，
可在較接近真實環(huán)境的工作條件下進行樣品表征。110毫米樣品  臺可傾斜至90?，優(yōu)中心工作距離較大，確保了系統(tǒng)較佳的靈活性。系統(tǒng)可選配低真空模式，可輕松兼容各種樣品類型和數(shù)據(jù)采 集。同時，系統(tǒng)結合了擴展的沉積和蝕刻功能、優(yōu)化的樣品靈活 性和控制能力，成為較通用的高性能FIB / SEM 系統(tǒng)，所有這些都由賽默飛的專業(yè)應用和服務支持。

電子光學
NICo非浸沒式**高分辨率場**掃描鏡筒，配有:
· 高穩(wěn)定性肖特基場**電子槍，用于提供穩(wěn)定的高分辨率 分析電流
· 60 度雙物鏡透鏡，支持傾斜較大的樣品
· 自動加熱式光闌，可確保清潔和無接觸式更換光闌孔
· 連續(xù)電子束電流控制和優(yōu)化的光闌角度
· 電子槍安裝和維護簡單 自動烘烤，自動啟動，*機械合軸
· 兩級掃描偏轉
· 雙物鏡透鏡，結合電磁透鏡和靜電透鏡
· 快速電子束閘*
· 用戶向?qū)Ш顽R筒預設
· 電子源壽命至少24個月
電子束分辨率
較佳工作距離下
· 30keV 下 STEM  0.7nm
· 1keV 下 1.4nm 15keV 下 1.2nm 
· 1keV下 電子束減速模式 0.99nm*

電子束參數(shù)
· 電子束流范圍（數(shù)顯，連續(xù)可調(diào)）：1pA  400nA
· 加速及著陸電壓：20V-30KV(連續(xù)可調(diào))
· 放大倍數(shù)范圍：40x-1200x
· 較大水平視場寬度：7mm工作距離下為3.0mm，60mm工作 距離下為7.0mm，樣品臺到束交叉點85mm
· 導航蒙太奇功能可額外增大視場寬度
離子光學
**的大束流Sidewinder離子鏡筒
· 加速電壓范圍：500 V - 30 kV
· 離子束流范圍：0.6pA  65nA（數(shù)值顯示）
· 15 孔光闌
· 標配不導電樣品漂移抑制模式
· 離子源壽命至少1,300小時
· 離子束分辨率：30 kV下 3.0 nm（采用選邊統(tǒng)計平均值法）
探測器
· Trinity 探測系統(tǒng)（透鏡內(nèi)和鏡筒內(nèi)）
- T1 分割式透鏡內(nèi)低位探測器
- T2 透鏡內(nèi)高位探測器
- T3可伸縮鏡筒內(nèi)探測器*
- 可同步檢測多達四種信號
· ETD Everhart-Thornley 二次電子探測器
· ICE探測器 - 高性能離子轉換和電子探測器，用于采集二次電子和二次離子*
· DBS  可伸縮式低電壓、高襯度、分割式固態(tài)背散射電子探測器*
· STEM 3+ 可伸縮分割式探測器(BF、DF、HAADF) *
· 樣品室紅外 CCD 相機，用于樣品臺高度觀察
· Nav-Cam?： 樣品室內(nèi)彩色光學相機，用于樣品導航*
· 電子束流測量*
樣品臺和樣品
靈活五軸電動樣品臺：
· XY范圍：110mm
· Z范圍：65mm
· 旋轉：360 °（連續(xù)）
· 傾斜范圍：-15°到 +90°
· XY重復精度：3μm
· 較大樣品高度：與優(yōu)中心點間隔85mm
· 較大樣品質(zhì)量（0°傾斜）：2kg（包括樣品托）
· 較大樣品尺寸：可沿X、Y軸完全旋轉時直徑為110mm（若樣  品**出此限值，則樣品臺行程和旋轉會受限）
· 同心旋轉和傾斜
真空系統(tǒng)
· 完全無油的真空系統(tǒng)
· 樣品倉真空（高真空）：< 5.9 x 10 -6 mbar（24小時抽氣后）
· 抽氣時間：208秒
· 可選空壓機和冷卻循環(huán)水系統(tǒng)，分別用于冷卻SEM鏡筒及其它部件

樣品倉
· 電子束和離子束夾角：52°，集成等離子清洗功能
· 端口：21個
· 內(nèi)徑寬度：379mm

詞條
詞條說明
x光檢測
一、X-ray是什么？ X-ray是利用陰極射線管產(chǎn)生高能量電子與金屬靶撞擊，在撞擊過程中，因電子突然減速，其損失的動能會以X-Ray形式放出。而對于樣品無法以外觀方式觀測的位置，利用X-Ray穿透不同密度物質(zhì)后其光強度的變化，產(chǎn)生的對比效果可形成影像，即可顯示出待測物的內(nèi)部結構，進而可在不破壞待測物的情況下觀察待測物內(nèi)部有問題的區(qū)域。二、X-ray能做什么事？高精度X-ray是無損檢測重要方
半導體分析樣品制備
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